浅谈镀镍电镀液去除铜杂质的方法
铜离子是光亮镀镍中较常见的杂质之一。镀液受Cu2 污染，会使镀件低电流密度区光亮度差，过多的Cu2 还会造成镀层脆性增大及结合力不良的弊病。在光亮镀镍液中，ρ（Cu2 ）应小于0.01g/L。去除镀液中的Cu2 有以下几种方法。
1）电解法。即用低电流密度使镀液中的Cu2 沉积在处理阴极板上的方法。用于处理的阴极板有波纹板、锯齿板和平面板三种型式。波纹板在施加一定电流电解时，阴极板上Jκ范围较广，波峰处Jκ较大，波谷处Jκ较小，所以能使Cu2 和其他金属杂质同时沉积，达到去除多种杂质的目的。锯齿形阴极板受效应的影响，电解过程中Ni2 和Cu2 同时沉积，造成镀液中镍盐损失增加。采用平板阴极可以使用不同的Jκ，达到有选择地去除金属杂质的目的。据经验，Jκ为0.5A/dm2时有利于Cu2 在阴极析出。商品生产电镀分为直接电镀和间接电镀，直接电镀小到一支针一个螺丝钉，大的到轮船飞机都要依靠电镀工业才能实现。
不论采用哪种型式的阴极进行电解处理都应注意几个问题：a.长时间电解处理时，应定时清洗电解板，防止电解板上疏松镀层脱落重新污染镀液；b.采用阴极移动或空气搅拌可以提高处理效果；无论是对于CO2激光，采用铜、钼、硅、锗等来制作反射镜，采用锗、shen化jia、硒化锌作为输出窗口和透射光学元件材料，还是对于YAG激光采用普通光学玻璃作为反射镜、输出镜和透射光学元件材料，都不能达到全反射镜的99%以上要求。c.电解处理中使用的阳极板必须是的镍阳极板，否则将影响处理效果，造成不必要的浪费。
2）化学沉淀剂法。常见的有QT除铜剂，该沉淀剂主要成分是亚铁青化物，在镀液中与Cu2 生成亚铁青化铜沉淀，然后过滤出沉淀，达到去除铜杂质的目的。此方法的缺点是需要进行精密过滤，比较费时。
3）螯合剂法。螯合剂一般为芳环或杂环结构的有机物，在镀液中与Cu2 形成螯合物，由于在电解中，螯合物和Ni2 共沉积，可以使镀液中ρ（Cu2 ）不至于上升过高。这种方法简单易行，是目前处理镀镍液中杂质较好和有效的方法。在应用时必须选用的螯合剂，特别是要确保不能对镀层产生不良的影响。对于YAG激光灯近红外波段或可见光波段，常用的镀膜材料有硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆等。
