棫楦金属材料有限公司成立于2010年，公司具有全自动电解出产线4条,手动电解出产线3条,首要以不锈钢、不锈铁电解抛光、钝化加工为主，很大工件电解抛光规范：2300*1100*1000，所加工产品首要用于精密电子配件、家私、餐具方面。加工后的产品完全可以经过：ROHS、FDA、QS等规范查验。
为了进行化学抛光，必须使零件表面的凸部比凹部优先溶解，因此应将化学抛光的作用分为两个阶段来认识。第1阶段是化学抛光时金属表面现象的几何凸凹的整平，去除较粗糙的表面不平度，获得平均为数微米到数十微米的光洁度；第二阶段是晶界附近的结晶不完整部分的平滑化，去除微小的不平，在0.1～0.01μm，相当于光波长的范围。可将第1阶段称为宏观抛光或平滑化，把第二阶段称为微观抛光或光泽化。
不锈钢抛光定义
不锈钢抛光不要一开始就使用***细的油石，砂纸，研磨抛光膏，那样是不能把粗的纹路抛掉的。那样打磨出来的活的表面看起来很光亮，但是侧面一照，粗的纹路就显现出来了。因此，要先从粗的油石，砂纸或者研磨抛光膏打磨，然后再换比较细的油石，砂纸或研磨抛光膏进行打磨，***后再用***细的研磨抛光膏进行抛光。这样看起来好像比较麻烦，工序多。实际上并不慢，一道接一道的工序，将前面粗的加工纹路打磨掉，再进行下面的工序，不会返工，一次走下来就可以使不锈钢的光洁度达到要求。
化学抛光可作为电镀预处理工序，也可在抛光后辅助以必要的防护措施直接使用。为了进行化学抛光，必须使零件表面的凸部比凹部优先溶解，因此应将化学抛光的作用分为两个阶段来认识。***阶段是化学抛光时金属表面现象的几何凸凹的整平，去除较粗糙的表面不平度，获得平均为数微米到数十微米的光洁度；第二阶段是晶界附近的结晶不完整部分的平滑化，去除微小的不平，在0.1～0.01μm，相当于光波长的范围。可将***阶段称为宏观抛光或平滑化，把第二阶段称为微观抛光或光泽化。
电化学抛光也称电解抛光。1.原理：电解抛光原理在世界各界人士争论很多，被大家公认的主要为黏膜理论。该理论主要为：工件上脱离的金属离子与抛光液中的磷酸形成一层磷酸盐膜吸附在工件表面，这种黏膜在凸起处较薄，凹处较厚，因凸起处电流密度高而溶解快，随黏膜流动，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被整平的过程。
电化学抛光所需条件及设备
电解槽及配套设施（阳极棒）可选用聚***硬板材焊接而成。在槽上装三根电极棒，中间为可移动的阳极棒，接电源阳极（或正极），两侧为阴极棒，连接电源阴极（负极）。加热设施及冷却设备①加热可选用石英加热管，钛加热管。②冷却可选用盘管，盘管可加热可冷却。夹具选用钛做挂具，因为钛较耐腐蚀，寿命长，钛离子对槽液无影响。建议不要用铜挂具，因为铜离子进入会在不锈钢表面沉积一层结合力不好的铜层，影响抛光质量。铜裸l露部位可用聚***胶烘烤成膜，在接触点刮去绝缘膜。