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反应性离子刻蚀
以下是创世威纳为您一起分享的内容,创世威纳***生产反应性离子刻蚀机,欢迎新老客户莅临。
反应性离子刻蚀 (reaction ionetching;RIE)是制作半导体集成电路的蚀刻工艺之一。在除去不需要的集成电路板上的保护膜时,利用反应性气体的离子束,切断保护膜物质的化学键,使之产生低分子物质,挥发或游离出板面,这样的方法称为反应性离子刻蚀。
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离子束刻蚀机的特点
刻蚀过程是纯物理溅射,可以刻蚀任何固体材料;平行离子束刻蚀,高各向异性;无钻蚀;精度高,分辨率lt;0.01um.
创世威纳公司拥有***的技术,我们都以质量为本,信誉高,我们竭诚欢迎广大的顾客来公司洽谈业务。如果您对离子束刻蚀机产品感兴趣,欢迎点击左右两侧的在线***,或拨打咨询电话。
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离子束刻蚀机
离子束刻蚀是从工件上去除材料,是一个撞击溅射过程。
当离子束轰击工件,入射离子与靶原子碰撞时将动能传递给靶原子,使其获得的能量超过原,子的结合能,导致靶原子发生溅射,从工件表,面溅射出来,以达到刻蚀的目的。
刻蚀加工时,对离子入射能量、束流大小、离子入射角度以及工作室压力都需要根据不同的加工需求进行调整。
离子束刻蚀可以在加工、表面抛光、石英晶体谐振器制作等方面得到应用。
加工
离子束刻蚀可达到很高的分辨率,适合刻蚀精细图形。离子束加工小孔的优点是孔壁光滑,邻近区域不产生应力和损伤能加_工出任意形状的小孔,且孔形状只取决于掩模的孔形。
加工线宽为纳米级的窄槽是超精微加工的需要。如某零件要求在10nm的碳膜上,用电子束蒸镀10nm的金一铝(60/40)膜。
首先将样品置于真空系统中,其表面自然形成---种污染抗蚀剂掩模,用电子束***显影后形成线宽为8nm的图形,然后用ya离子束刻蚀,离子束流密度为0.1mA/cm, 离子能量是1keV;另一种是在20nm厚的金一钯膜上刻出线宽为8nm的图形、深宽比提高到2.5:10。 由此可见离子束加工可达到很高的精度。
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