碳化硅制作工艺，由于天然含量甚少，碳化硅主要多为人造。碳化硅用途，碳化硅晶片属于宽带隙半导体材料，是第三代半导体材料，是未来可以替代硅作芯片的材料，将会引起电子行业革命性的变革。常见的方法是将石英砂与焦炭混合，利用其中的二氧化硅和石油焦，加入盐和木屑，置入电炉中，加热到2000°C左右高温，经过各种化学工艺流程后得到碳化硅微粉。碳化硅（SiC）因其很大的硬度而成为一种重要的磨料，但其应用范围却超过一般的磨料。我们生产的硅锰，硅钙，硅钙铝合金，高碳铬铁，复合脱氧剂，碳化硅，增碳剂，硅钙线，硅铁厂家，化学成分和粒度也可以根据客户的要求来订做。
碳化硅用途，碳化硅晶片属于宽带隙半导体材料，是第三代半导体材料，是未来可以替代硅作芯片的材料，将会引起电子行业革命性的变革。该材料不被有色金属润湿，具有较高的常温机械强度和高温机械强度，能较好地抗酸性渣的侵蚀。目前的主要用途是LED固体照明和应用于高频大功率的无线通讯。手机和笔记本电脑的背景光市场将给碳化硅巨大的需求增长。我们生产的硅锰，硅钙，硅钙铝合金，高碳铬铁，复合脱氧剂，碳化硅，增碳剂，硅钙线，硅铁厂家，化学成分和粒度也可以根据客户的要求来订做。
冶金化工方面：起先从西欧、北美各国开始用碳化硅应用在冶炼钢铁时添加的碳化硅作为脱氧剂、铸铁***的改良剂。用以制成的耐火材料，耐热震、体积小、重量轻而强度高，节能效果好。随着市场的推广，国内也开始大量使用碳化硅脱氧剂。因为碳化硅在熔融钢水中分解并和钢水中的游离氧、金属氧化物反应生成CO和含硅炉渣。特别是在冶炼铸铁时往往过量的加入碳化硅，以使少量的硅进入铁液中。这一处理有助于净化铸铁***，进一步提高铸件的质量。
