等离子抛光采用的抛光技术是一种完全不同于传统方法的新型抛光技术，此抛光技术是根据电化学原理与化学反应原理而研发设计的。其抛光技术不使用对环境有污染和损害生产者健康的化学物品，但它的抛光效果却能够达到传统方法很难达到的高品质，抛光速度也是传统抛光方法望尘莫及的，生产成本远远低于传统抛光成本。
由于等离子抛光有这些特性存在，所以目前应用的非常广，并且有取代电解抛光的趋势。
等离子抛光由于是靠电离子的摩擦作用，由于离子几乎没质量。所以摩擦力有限，对表面的摩擦作用一般是去掉1-2个丝。很明显对冲压印迹和表面橘皮无法去掉。采用手工抛光和等离子抛光相结合的办法。即采用手工开初去掉表面压印和橘皮。留下很深的麻轮纹路采用很细的线轮纹路去除。这个时候留下的线轮纹路采用等离子抛光去除。
等离子抛光是一种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-4.5纳米.抛光物的表面粗糙度在1MM范围内,因此等离子化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面化学物质。等离子就是在高温高压下，抛光盐水溶，在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。 对工件的任何一个面都能抛光。
