DZS800型电子束镀膜设备
主要用途：
用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，批量生产型。
系统组成:
系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、计算机系统及安装机台等部分组成。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10 Pa ***真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
真空室：真空室1200x9000 x800mm采用U型箱体前开门，后置抽气系统
e型电子枪：阳极电压：10kv(2套) 坩埚：水冷式坩埚，24穴设计，每个容量11ml
功率：0-10KW可调 电阻蒸发源(可选)
基片尺寸：可放置4″基片一次更换20个样品
样品台：基片可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离350mm加热温度 400°C±1°C
气路系统：质量流量控制器1路
石英晶振膜厚控制仪：监测膜厚显示范围：0-99μ9999?
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电子束镀膜原理
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电子束蒸镀是利用加速电子轰击镀膜材料，电子的动能转换成热能使镀膜材料加热蒸发，并成膜。电子枪有直射式、环型和E型之分。电子束加热蒸镀的特点是能获得极高的能量密度，可达109w/cm2，加热温度可达3000～6000℃，可以蒸发难熔金属或化合物;被蒸发材料置于水冷的坩埚中，可避免坩埚材料的污染，制备高纯薄膜；另外，由于蒸发物加热面积小，因而热辐射损失减少，热效率较高。但结构较复杂，且对较多的化合物，由于电子的轰击有可能分解，故不适合多数化合物的蒸镀。2、电子枪：电子枪功率6kW可调（满足金属、绝缘材料高速蒸发）4穴水冷坩埚（适用于对多种材料进行蒸发镀制多层膜且膜层较薄工艺中应用效果好）。
电子束蒸发镀膜机各部件介绍
1、烘烤照明系统1套。烘烤温度：室温-150℃。（在10-4Pa时，真空室内残余气体的组合，水蒸汽约占 90%以上，因此在该压强下进行蒸镀，实际上相当于在水蒸汽中制膜，为了减少水份，提高真空室温，使水分解，是提高膜层质量的一种可行办法）。
2、电控柜：标准电控柜，组装总控制电源、真空系统控制（分子泵、机械泵电源、挡板等）、数显真空计等。柜底下配脚轮，方便移动、***。
3、手动按钮式操作，备留机电转换及控制接口，方便实验记录.
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电子束蒸发镀膜设备简介
沈阳鹏程真空技术有限责任公司***生产、销售电子束，我们为您分析该产品的以下信息。
高真空电子束蒸发镀膜设备采用完全封闭的系统框架，结构紧凑，外观更漂亮，使用更安全。6-10KW e型电子枪可选国产或进口，可选配离子束清洗及辅助镀膜功能。该设备广泛应用于科研院所、高校在片状、半球状、异形基底表面制备金属/化合物（ITO等氧化物）/导电薄膜/光学薄膜等。用溅射的方法制镀的薄膜附着性强，薄膜的纯度高，可以同时溅射多种不同成分的材料，但是对靶材的要求高，不能象电子枪一样节约资源。
