碳氢清洗机简介
碳氢清洗机
清洗原理？碳氢清洗剂的清洗原理简单地说是依据溶剂的溶解力进行清洗。基于对油脂或油性污染的溶解性的脱脂机理：相似相溶原则。水能与具有与水结构相似OH的化合物如R-COOH（低级脂肪酸）、R-OH（低级醇）等互溶也是基于此。异种液体间的溶解性与表面张力、界面张力有密切关系。两者间的界面张力值近似容易互溶。
价格便宜。普通碳氢清洗剂的价格相当于F-113价格的50%以下，是某些ODS替代品价格的二十分之一。由于碳氢清洗剂的密度为0.75左右，大大低于卤代烃溶剂的密度，因此在同样容积的清洗槽中碳氢清洗剂的加入量仅为卤代烃清洗剂的一半。
尽管碳氢清洗剂有诸多优点，但与ODS清洗剂相比，其沸点高（150～190℃）而闪点低（50～70℃）。虽然较高的沸点可以减少清洗剂在储存、运输和使用过程中的挥发损耗，但也使清洗后工件的干燥速度大大降低，使清洗剂的蒸馏再生变得困难。较低的闪点则提高了清洗、干燥和蒸馏再生中的防火要求。
碳氢清洗剂的选择：
1、碳氢清洗剂的密度？ 碳氢清洗剂密度一般为0.7-0.8，纯度较高的碳氢清洗剂纯碳氢0.72到0.74。如果有供应商告诉你他产品的密度与这个相差较大，超过0.8、0.9甚至达到1，那么这类碳氢清洗剂是无法保证产品品质的。这个可以通过和供应商的业务人员、产品测试获知。2、有无齐全的环保检测报告？ 碳氢清洗剂供应商所提供的碳氢清洗剂是否有比较齐全的SGS环保检测报告，是否通过***预防控制中心的检测。
标题6演示（可不写标题）
（清洗的附着物：助焊剂、油、石蜡、油漆磨料、染料、锈、氧化物、尘、手垢）印刷线路板除松香、焊斑、阻焊剂；电子元器件、液晶玻璃、电视机零部件、高压触点等机械电子零件、电容、半导体、晶振、电阻、IC芯片、接插件、连接件、转接器、硅片、三极管、二极管、压电陶瓷基片、显象管、电真空器件的清洗清除灰尘、氧化层、抛光膏、、装饰品、计器、表带、表壳、表针、数字盘、油泥等。
