




抛光皮粗糙的表面有利于提高材料去除率,这是因为表面粗糙度高的抛光皮与工件表面的接触面积减小,而且粗糙的抛光皮表面可储存更多的抛光液,因此作用在单颗磨粒上的力增大,单颗磨粒的去除材料体积增大。
优化抛光皮表面粗糙度可在提高抛光效率的同时获得无损伤层的工件表面。此外,抛光皮厚度也是一个重要因素。对于作为***后工序超精密抛光,抛光皮厚度必须优化。
聚氨酯抛光垫
[产品特点]
1、效率高,较之同类产品不仅切削力快,仅需10分钟即可粗抛到位,聚氨酯抛光皮厂家,无残留刀痕。其表面非常光滑、整齐。
2、使用寿命长,一般抛光垫在可以抛光1000个产品左右,我司的抛光皮能达到1500批次。
3、弹性好,力道柔和等特点。
[应用行业] 半导体基板/硅片,LCD/平板显示器,精密光学元件,聚氨酯抛光皮,磁盘存储器基板,磁盘驱动头,平板玻璃/LCD/FPD;
阻尼布是一种丝绒状抛光布,常用于光学元件、晶体及金属和玻璃材料的终道抛光,型号多样,可成片提供的有1000*1000mm以及各种适合平面研磨设备圆片,厚度分别为 0.5、0.8、1.37、1.54(mm)等,聚氨酯抛光皮厂家,均可提供表面开槽、压格的,背面有带胶的和不带胶的。
高弹缓冲垫及吸附垫:
可以根据客户需求提供缓冲垫和吸附垫。缓冲垫是灵活应用高分子工业技术所研发出的高发泡硅胶泡棉。由于它具有普通泡棉所不具有的耐热性、耐寒性、低燃烧性等特点,可适用于贴合抛光阻尼布加工制成不同厚度的抛光垫,从而使抛光效果更佳更容易保护抛光工件。
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