南昌半导体清洗高纯水设备,纳米材料高纯水设备
半导体封装纯水制备系统重要性
半导体产品指的是一种在室温下导电能力处于导体和绝缘体之间的物质。半导体材料有很多种,依照其化学物质含有量能够将其分为元素型半导体以及化合物型半导体两种。超纯水制备系统使用的是现如今***流行的EDI膜块制水技术,原水通过前端预处理以及反渗透膜单元处理之后,在通过EDI膜块的进一步深度处理,超纯水系统产出的水就是符合标准的超纯水。
半导体封装纯水制备系统用途
半导体封装纯水系统应用范围非常广泛,其中包括半导体物件的清洗、液晶显示屏清洗、线路板焊接用水、各种电子器件制造过程用水、微电子制造业用水、大规模集成电路制造以及清洗用水等。电路的精度越高,这个企业对用水质量的要求也就越高,现如今,中国对电子制造业用水标准共分了五个等级。
半导体封装纯水制备系统在使用了超级流行的工艺之外,在操控方面也非常有优势,整套流程全部采用全自动操控的模式,因此相对同类产品更加省时省力
半导体清洗超纯水设备制备工艺:
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥16MΩ.CM)(***新工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(***新工艺)