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低***系稀土抛光粉

主要为“氯化稀土、氟碳***矿和少铕氯化稀土(w(REO)≥45% ， w(CeO2)≥48%)，稀土抛光粉厂家，以及近年来采用少钕碳酸稀土为原料，以合成中间体 ( 沉淀剂 ) 进行复盐沉淀等处理，可制备低级***系稀土抛光粉产品。

用混合型的氟碳***矿高品位稀土精矿(w(REO)≥60% ， w(CeO2)≥48%) 为原料，直接用化学和物理的方法加工处理，如磨细、煅烧及筛分等可直接生产低级***系稀土抛光粉产品。

光学玻璃抛光粉的基本要求

有非常好的分散性，以确保在加工过程的***、均匀，可适当添加分散剂提高悬浮率；

微粉粒需要有一定的晶格形态，破碎时形成锐利的棱角，以提高抛光效率；

抛光粉通常由(VK-CE01)、氧化铝(VK-L30F)、氧化硅(VK-SP50F)、氧化铁、氧化锆(VK-R30F)、氧化铬等组份组成。

玻璃抛光粉产品配比浓度低，使用量少， 在低浓度下能达到较佳的抛光效果（只是同比产品的2/10-5/10左右）; 抛光速度快，稀土抛光粉哪家便宜，无划伤， 无光道 ；玻璃抛光粉本产品氧化***含量高， 粒度细，稀土抛光粉， 分布合理，稀土抛光粉厂家***， 比表面积大， 使用寿命长· 适用于各种不同材质的抛光；抛光过程中， 附着力强， 易清洗， 悬浮性好（可添加3-5%LBD-1分散剂提高悬浮率）， 不易沉降·；PH值呈中性， 不污染环境， 无异味， 不怕潮， 可长期存放不变质。