多层镀膜过程之间的清洗:多层镀膜过程中时有污染,可以调整清洗器能量档位来对镀膜件在镀膜过程中的污染进行清洗,使下一次镀膜效果更好。
其他的如等离子刻蚀、活化和涂镀等:由于等离子清洗处理的功能和用途如此之多,静电场水解冻清洗设备***,因此,光学、光电子、光通讯、电子、微电子、半导体、激光、芯片、珠宝、显示、航天航空、生命科学、***、***、生物、物理、化学等各方面的科研和生产都有其应用之处。





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物理法①机械清洗法:清扫器、钻管清洗法、喷丸清洗法。②水利清洗法:低压水力清洗(低压清洗的压力为196-686千帕,大约2-7公斤力/平方厘米,等于0.2-0.7Mpa)。③高压水射流设备清洗:高压清洗的压力为4900千帕,大约50公斤力/平方厘米,等于5Mpa。这种情况方法也叫高压水射流法、高压清洗机。
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