手表真空电镀-新威(在线咨询)-东兴真空电镀

一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点：

(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料.

(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜.

(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体，可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物.

(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制，容易得到高精度的膜厚.

(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜.

(6)溅射粒子几不受重力影响，靶材与基板位置可自由安排.

(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上，且由于溅射粒子带有高能量，在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜，同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜.

(8)薄膜形成初期成核密度高，可生产10nm以下的极薄连续膜.

(9)靶材的寿命长，可长时间自动化连续生产.(10)靶材可制作成各种形状，配合机台的特殊设计做更好的控制及有效率的生产.

通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，七彩真空电镀，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，东兴真空电镀，则要求压力更低（ 10-5Pa ）。

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，不锈钢真空电镀，具体包括很多种类，手表真空电镀，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。