特种气体兴起于60年代中期,安徽特种气体,作为基础化工材料,主要运用于大型石油化工、半导体器件、光导纤维、激光、医1学科学、临床诊断、医1药消毒、水果催熟、食品保鲜等领域。随着新产品技术的发展,特种气体出售,其应用范围也越来越广泛。在国民经济高速发展及下游1行业的强劲需求下,我国特种气体行业在2006年后进入快速发展阶段,年均增速达到17%以上。2011年,国内特种气体行业产值规模为296.88亿元,较上年增长22.15%;销售收入为297.52亿元,较上年增长21.64%。
有人说电子特气是电子工业体系的血液,有人说电子特气是电子工业体系的粮食,还有人说电子特气是电子工业体系的脑细胞,特种气体公司,这些都说明了电子气体对于集成电路生产的重要性,无疑是集成电路制造所需要的关键材料。
面对如此的大好形势,特种气体公司如雨后春笋般的遍地崛起,根据气体圈子统计,高纯氨企业已经在生产的和新项目立项确定的就有15家,***的生产企业和立项已经确定的有17家,三氟化氮生产企业未来也有近10家。这些企业大体分为三类,第1类是之前就从事特种气体生产研究的企业,第二类是由工业气体企业转型而来,第三类是非气体行业的“慕名而来”,气体圈子认为国产化更多时候PK的应该是质量而非数量。
特种气体在蚀刻中的应用
蚀刻是采用化学和物理方法,有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程。刻蚀的目的是在涂胶的硅片上正确地复1制掩膜图形。刻蚀分为湿法蚀刻和干法蚀刻。湿法蚀刻是利用液态化学***或溶液通过化学反应进行蚀刻。干法蚀刻利用低压放电产生的等离子体中的离子或游离基与材料发生化学反应,或通过轰击等物理作用而达到蚀刻的目的。其主要介质是气体。干法蚀刻的优点是各向异性(即垂直方向蚀刻速率远大于横向速率)明显、特征尺寸控制良好、***使用和处理费用低、蚀刻速率高、均匀性好、良率高等。常用的干法刻蚀是等离子体蚀刻。
硅片的蚀刻气体(特种气体)主要是氟基气体,特种气体销售,包括四氟化碳、四氟化碳/氧气、六氟化硫、六氟乙1烷/氧气、三氟化氮等。但由于其各向同性,选择性较差,因此改进后的蚀刻气体通常包括氯基(Cl2)和xiu基(Br2、HBr)气体。反应后的生成物包括四氟化1硅、四氯硅1烷和SiBr4。铝和金属复合层的蚀刻通常采用氯基气体,如CCl4、Cl2、BCl3等。产物主要包括AlCl3等
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