基体资料的外表状况是影响掩盖才能的主要要素之一。实习标明，金属在不一样基体资料上电堆积时，同一镀液的掩盖才能不一样也很大。如用铬酸溶液镀铬，真空电镀工厂，金属铬在铜、镍、黄铜和钢上堆积时，镀液的掩盖才能顺次递减。这是因为当金属离子在不一样的基体资料上复原堆积时，其过电位的数值有很大的不一样。过电位较小的分出电位较正，即便在电流密度较低的部位也能到达其分出电位的数值，因而其掩盖才能较好。基体资料的外表状况对掩盖才能的影响比较复杂。
一般来说，同一镀液在光洁度高的基体外表上掩盖才能要比其在粗糙外表上的掩盖才能好。因为外表积大，其实在电流密度较低，不易到达金属的分出电位，玻璃真空电镀，而仅仅分出很多氢气。别的，塑料真空电镀，若是基体外表镀前处置不良，存在没有除尽的油膜、各种成相膜层或污物等，河北真空电镀，也将阻碍镀层的堆积而使掩盖才能下降。
为了确保塑料镀件表面无缺陷、无明显的定向***结构与内应力，在设计与制造模具时应满足下面要求。
(1) 塑件表面如实反映模腔表面，因此电镀塑件的模腔应十分光洁，模腔表面粗糙度应比制件表面表面粗糙度高1～2级。
电镀阳极的主要作用是导电和向镀液中补充 金属阳离子。
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