一般真空电镀的做法是在素材上先喷一层底漆，再做电镀．由于素材是塑料件，在注塑时会残留空气泡，烟台真空电镀，有机气体，而在放置时会吸入空气中的水分．另外，由于塑料表面不够平整，直接电镀的工件表面不光滑，光泽低，金属感差，并且会出现气泡，塑胶真空电镀，水泡等不良状况．喷上一层底漆以后，会形成一个光滑平整的表面，并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生，使得电镀的效果得以展现．
真空电镀可分为一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊.工艺有蒸镀、溅镀、枪色等.
水电镀因工艺较简单，从设备到环境得要求均没有真空离子镀苛刻，金属真空电镀，从而被广泛应用.但水电镀有个弱点，只能镀ABS料和ABS PC料（此料镀的效果也不是很理想）.而ABS料耐温只有80℃，这使得它的应用范围被限制了.而真空电镀可达200℃左右，这对使用在高温的部件就可以进行电镀处理了.像风嘴、风嘴环使用PC料，这些部件均要求耐130℃的高温.另，一般要求耐高温的部件，做真空电镀都要在***后喷一层UV油，这样使得产品表面即有光泽、有耐高温、同时又保证附着力.
真空镀膜
主要利用辉光放电(glowdischarge)将***气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，真空电镀机，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜.溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多.新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的***气离子化，造成靶与***气离子间的撞击机率增加，提高溅镀速率.一般金属镀膜大都采用直流溅镀，而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀，基本的原理是在真空中利用辉光放电(glowdischarge)将***气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜.
真空电镀的特点：真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等
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