我公司是单晶硅和多晶硅生产清洗工艺用高纯水设备的***生产厂商，单晶硅高纯水设备的具体参数如下：
工业超纯水处理：
RO＋EDI＋抛光混床
设备处力：按客户要求设计
出水指标：≥16-18.2MΩ．CM
产水用途：电子、等行业用工业超纯水
反渗透＋EDI
设备处力：按客户要求设计
出水指标：≥16-.18.2MΩ．CM
产水用途：电子、单晶硅/多晶硅用工业高纯水、纯水设备
反渗透（膜分离法）超纯水分离技术
反渗透是用足够的压力使溶液中的溶剂（一般指水）通过反渗透膜（一种半透膜）而分离出来，方向与渗透方向相反，可使用大于渗透压的反渗透法进行分离、提纯和浓缩溶液。反渗透膜的主要分离对象是溶液中的离子范围
反渗透分离过程有如下优点：
①不需加热，没有相变
②能耗少，过程连续稳定
③设备体积小、操作简单、适应性强
④对环境不产生污染
反渗透纯水系统根据不同的源水水质采用不同的工艺，一般自来水经一级反渗透处理后，产水电导率＜10～20us/cm，经二级反渗透处理后＜5us/cm，甚至更低，在反渗透系统后辅以离子交换设备或EDI设备可以制备超纯水，使电阻率高达18.2兆欧姆.厘米
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