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真空镀膜加工的分类之离子镀

一种离子镀系统是将基片台作为阴极，真空电镀工厂，外壳作阳极，真空电镀，充入惰性气体(如)以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子(约占蒸发料的95%)也沉积在基片或真空室壁表面。

电场对离化的蒸气分子的加速作用(离子能量约几百～几千电子伏)和离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度大大提高。

真空镀膜和涂层技术的发展与应用解说：

PVD(物***相沉积)技术在二十世纪七十年代末，开始应用在提高机械力学性能的硬质膜方面，真空电镀加工价格，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速具领域的成功应用引起了世界各国工具制造业的高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类具中进行了更加深入的涂层应用研究。PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向

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