哈尔滨工业超纯水设备,哈尔滨EDI超纯水设备,哈尔滨EDI超纯水系统
一、概述
莱特莱德水处理***从事超纯水,超纯水系统,EDI超纯水设备,EDI超纯水系统及污水处理系统的开发、制造、销售和服务于一体的高科技企业。益民水处理以引进和推广国内外***水处理设备为己任我们开发制造的RO纯水系统和EDI超纯水系统可广泛应用于光伏光电、液晶显示、偏光片、ITO导电膜、电子电器、半导体、线路板、食品饮料、***化工、电厂、生活饮水、化妆品等行业。我们开发研究制造的EDI超纯水系统,在光伏光电、太阳能等行业得到广泛的应用。
二、选择工业超纯水的必要性
在光伏行业电子管生产中,光伏行业电子管阴极涂甫碳酸盐。如其中混入杂质,就会影响电子的发射,进而影响电子管的放大性能及寿命,因此其配液要使用纯水,在显像管和阴极射线管生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,是锌或其他金属的硫化物组成的荧火粉颗粒并用硅酸钾粘合而成,其配制需用纯水,如纯水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中,玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水,每生产一个晶体管需高纯水80kg。液晶显示器的屏面需有纯水清洗和用纯水配液,如纯水中有金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电路发生故障,影响液晶屏质量,导致报废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质的要求
纯水在电子工业主要是电子元器件生产中的重要作用日益突出,纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一,水质要求也越来越高。在电子元器件生产中,高纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料,不同的电子元器件生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。
在电解电容器生产中,铝箔及工作件的清洗需用纯水,如水中含有氯离子,电容器就会漏电。在电子管生产中,电子管阴极涂敷碳酸盐,如其中混入杂质,就会影响电子的发射,进而影响电子管的放大性能及寿命,因此其配液要使用纯水。在显像管和阴极射线管生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成,其配制需用纯水,如纯水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含有机物胶体、微粒、***等,就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力,并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中,玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水,每生产一个显像管需用纯水80kg[1]。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液,如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电路发生故障,影响液晶屏质量,导致废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质的要求
哈尔滨工业超纯水设备,哈尔滨EDI超纯水设备,哈尔滨EDI超纯水系统
表1 显像管、液晶显示器用纯水水质
项目单位 电阻率
MΩ•cm
(25t) ***
个/ml 微粒
个/ml TOC
mg/L Na+
μg/L K+
μg/L Cu
μg/L Fe
μg/L Zn
μg/L
黑白显像管
彩色显像管
液晶显示器 ≥5
≥5
≥5 ≤5
≤1
≤1 ≤10(Φ>0.5μ)
≤10(Φ>1μ)
≤10(Φ>1μ) ≤0.5
≤0.5
≤1 ≤10
≤10
≤10 ≤10
≤10
≤10 ≤8
≤10
≤10 ≤10
≤10
≤10 ≤10
≤10
≤10
在晶体管、集成电路生产中,纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片,水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,***(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化[2],水中***高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏[3],水中的颗粒(包括***)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。集成电路生产对纯水水质的要求见表2。
表2 集成电路(DRAM)对纯水水质的要求[4][5][6]
集成电路(DRAM)集成度 16K 64K 256K 1M 4M 16M
相邻线距(μm) 4 2.2 1.8 1.2 0.8 0.5
微粒 直径(μm) 0.4 0.2 0.2 0.1 0.08 0.05
个数(PCS/ml) <100 <100 <20 <20 <10 <10
***(CFU/100ML) <100 <50 <10 <5 <1 <0.5
电阻率(μs/cm,25℃) >16 >17 >17.5 >18 >18 >18.2
TOC(ppb) <1000 <500 <100 <50 <30 <10
DO(ppb) <500 <200 <100 <80 <50 <10
Na+(ppb) <1 <1 <0.8 <0.5 <0.1 <0.1
在光伏行业晶体管、集成电路生产中,纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,***(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,III族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化,水中***高温碳化后的磷(约占灰分的20%~50%)会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏。水中的颗粒(包括***)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。
超纯水中杂质的污染源
1.水源的影响
由于水是一种溶解能力很强的溶剂,因此天然水中含有各种盐类和化合物,溶有CO2, 还有胶体(包括硅胶和腐殖质胶体),天然水中还存在大量的非溶解性质,包括粘土、砂石、***、微生物、藻类、浮游生物、热源等。
2.材料的影响
制备超纯水的材料设备的材质都是用金属和塑料制成的,金属在水中会有痕量溶解,造成金属离子污染。一些高分子材料,在合成时常常加入各种添加剂、增塑剂、紫外吸光剂、着色剂,也引入大量的金属、非金属杂质,同时还会带来有机污染。
3. 超纯水生产工艺介绍
3.1 工艺流程
水处理的纯水设计方案,说明工业纯水在光学制造中的应用。本项目选用***、成熟、出水水质稳定、系统运行稳定的反渗透+EDI脱盐装置作为系统的主脱盐设备;系统运行费用低,易于实现自动化。反渗透水处理系统具有很好的经济性。反渗透+EDI脱盐的水处理系统工艺流程如下:
原水箱→原水泵→加药装置→多介质过滤器→加药装置→活性碳过滤器→全自动软化器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透系统→中间水箱→二级高压泵→二级反渗透系统→纯水箱→纯水泵→TOC分***→脱气膜→精密过滤器→EDI装置→纯水箱→纯水泵→抛光混床→膜过滤器→生产线用水点。
3.2 工艺概述
3.2.1预处理 预处理主要是去除水中的有机物、悬浮物、胶体、硬度和余氯等,以确保RO能正常工作。处理工艺采用多介质过滤、活性碳吸附,减少RO工作时产生垢物和藻类生长及微生物污染及氧化剂。
预处理系统包括:原水箱、原水泵、加药系统、多介质过滤、加药系统、活性碳过滤、全自动软化器。
3.2.2 反渗透装置 反渗透装置是该项目预脱盐的心脏部分,经反渗透处理的水,能去除绝大部分无机盐、有机物、微生物等。设计的合理与否直接关系到项目的***费用、整个系统运行的经济效益、使用寿命、操作的可靠简便性。反渗透膜均采用世界上******的超低压复合膜,单根脱盐率达99.8%。当系统设计温度为20℃时,考虑到原水水质变化以及膜的使用寿命等因素,本系统采用8英寸的复合RO膜,安装在不锈钢压力容器内。回收率:50%-75%,脱盐率:98%。 RO系统回收率在50%-75%以上,系统脱盐率不小于98%。在本项目中,考虑到设备的节能、运行压力、膜的透过率、膜的脱盐率、出水的含盐量等因素,我公司推荐采用美国DOW,HYDRAUANTICS公司的8040 型反渗透膜。
4. 超纯水系统
4.1 IONPURE/E-CELL超纯水专用简介
CEDI全名为Continuous Electrodeionization (电解式连续离子法),其主要用途是针对半导体、电厂、电子、制药或实验室等高科技产业提供高纯度的超纯水,该技术问世已超过15年,注册专利名为CDI,其研发成果居于市场***者地位,且闻名于世。
CDI电解式连续去离子膜块组的功能与传统的混床离子交换树脂相似,一般皆使用于RO(逆渗透)系统去除水中微量的离子,但CDI系统不需停机再生,因此也不需使用酸碱再生也没有废水排放的问题。
4.2 IPLX模块优势总结
① 不需要任何化学物质;
② 不需要浓水循环泵、加盐泵;
③ 系统不会产生***;
④ 浓水可全部回收;
⑤ 系统运行稳定可靠;
⑥ 安装及维护成本低廉;
⑦ 符合环保及卫生标准。
结论
哈尔滨工业超纯水设备,哈尔滨EDI超纯水设备,哈尔滨EDI超纯水系统公司名称:
莱特莱德水处理哈尔滨公司
办公电话:
0451-51882979 谢绝推销
传真电话:
0451-51882979
销售服务:
刘经理
18945042979 谢绝推销
技术服务:
18940199185 谢绝推销
18904059090 谢绝推销
采购部:(推销请联系我^_^)
18940190403