用于故障分析或MEM和LED器件制造的高性能等离子体蚀刻，等离子蚀刻系统设计用于***的蚀刻应用，等离子机操作程序，例如：去除用于故障分析，去封装和介电材料去除的中间膜，蚀刻氧化物，氮化物，硅，金属，材料用于MEMS，LED或IC器件制造，环氧树脂去除; 光致抗蚀剂剥离和去除。等离子体蚀刻机可以适应各种工艺气体，包括：Ar，O2，H2 /形成气体，樟木头等离子清洗厂家，He，CF4和SF6。标准是2个电子质量流量控制器，用于气体控制，pla***a清洗改善，另有2个可选项（共4个）。
SPA等离子处理设备： 允许***的前部访问，方便地访问所有内部组件。泵***在辊子上，便于拆卸。等离子体室由11号不锈钢和铝制固定装置构成，具有出色的耐用性。该室具有多个可移动和可调节的货架，可容纳一系列零件承运人，包括机械手，托盘，晶片。具有可选高吞吐量货架的离子体处理系统，将等离子清洗机的可靠性和工艺质量与达因特独特的搁架设计的成熟优势相结合。等离子体中发现的反应离子，提高了处理均匀性，同时缩短了处理时间。系统允许从一系列工艺气体（如氢气和氦气）中进行选择。它配备了四个质量流量控制器，用于气体控制。开槽的杂志垂直放置在室内。此外，开槽的处理的材料可以垂直放置在室内。通常，每个槽至少保存20个引线框。SPV等离子室可容纳多个放置处理的槽，等离子，具体取决于处理材料的大小。
达因特SPV真空等离子体清洗机，用于批量处理的超大腔体等离子体处理系统，真空等离子清洗机通过广泛的研究和开发，提供独特的真空和气体流动技术.
真空等离子体清洗机：使用脉冲RF来增强等离子体聚合膜的性能，是原型，先导或生产加工基材的理想选择。可靠性和工艺质量与达因旆独特的搁架设计和等离子体中发现的反应离子的优化应用相结合，提高了处理均匀性，同时缩短了处理时间。用于处理所有类型零件和部件的成本和空间有效的真空等离子体处理机。等离子体室由11号不锈钢和铝制固定装置构成，具有出色的耐用性。该腔室具有多个可拆卸和可调节的架子，可容纳一系列部件，可容纳多达14个电极位置。PD-1000标配配备两个质量流量控制器，用于气体控制。
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