镀层附着性能好
普通真空镀膜时，蒸发料粒子大约只以一个电子伏特的能量向工件表面蒸镀，在工件表面与镀层之间，形成的界面扩散深度通常仅为几百个埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是说比一根头发丝的百分之一还要小。两者间可以说几乎没有连接的过渡层，好似截然分开。而离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能。如果说普通真空镀膜的粒子相当于一个气喘吁吁的长跑运动员，梅州线路板电镀，那么离子镀的粒子则好似乘坐了高速火箭的乘客，当其高速轰击工件时，河源线路板电镀，不但沉积速度快，线路板电镀，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特别牢。对离子镀后的试件作拉伸试验表明，一直拉到快要断裂时，线路板电镀，镀层仍随基体金属一起塑性延伸，无起皮或剥落现象发生。可见附着得多么牢固啊！
镀硬铬电镀的工艺过程包括镀前处理、电镀、镀后处理三大步。
使用目的的不同，电镀的工艺过程也不完全相同。镀前处理包括抛光和打磨、脱脂、除锈、活化等多道工序。镀前处理质量直接影响到镀层与基体间的结合力和镀层的完整性。镀后处理则关系到镀层的防护性和装饰性效果。镀后处理包括钝化和浸膜。钝化是在新镀出的镀层表面人为地形成一层致密的氧化物膜，使使镀层金属与空气隔绝，以提高镀层的防火性和装饰性。浸膜是在镀后的零件表面浸涂的一层有机或无机高分子膜，以提高镀层的防护性和装饰性。电镀层的质量主要体现在他的物理化学性能、***结构和表面特征等。
评价任何电镀硬铬技术工艺都要用到若干通用指标，通常分为与镀液性能有关的指标和与镀层性能有关的指标。镀液指标是电镀工艺的主要指标，包括镀液的电流效率（与沉积速度有关）、分散能力、深镀能力、镀层结晶状态、镀液稳定性和可操作性（包括工艺条件的控制、对设备有无特别要求）、对环境的影响程度、经济效益（电镀加工成本）等。
镀层性能指标是电镀硬铬技术工艺所保证的镀层性能和质量的指标，是直观地评价电镀工艺水平的重要指标，比如镀层的装饰性能、光亮程度、抗腐蚀性能、镀层脆性、镀层孔隙率等。功能性镀层则要加上功能性能指标，比如电导率、反射光系数、可焊性、耐磨性等。
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