Fluid Purification
GE阻垢剂MDC150
Argo MDC150阻垢剂与传统阻垢剂的技术特点比较
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晶体修改型阻垢剂 |
Argo MDC 150阻垢剂 |
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阻垢剂类型 |
晶体修改型 |
阻止晶体生成型 |
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阻垢原料 |
含磷小分子或含磷多元共聚物(有机***)与其他高分子聚合物的复合配方 |
树枝状聚合物Dendrimer的高纯度单一合成体 |
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生产工艺 |
买来用于锅炉或冷却循环水阻垢的***剂按一定比例复合配制,难以保证配方 纯度和溶解度 |
拥有世界科技前沿完整生产线及专利技术自行生产合成Dendrimer |
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阻垢原理 |
促使金属微晶(Ca2++SO42-=CaSO4)生成后再通过对晶体生长进行修改,阻止微晶长大为 沉淀 |
直接阻止微晶(CaSO4)生成 |
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阻垢产物 |
大量微晶生成并悬浮于浓水中,当其覆盖 于膜表面时，则导致反渗透膜污堵 |
无微晶生成 |
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阻垢剂对膜的污染影响 |
含磷分子设计导致其本身也可与膜表面 生成氢键链接,从而导致膜的污堵 |
树枝状聚合物Dendrimer与膜不会发生任何反应或附着 |
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阻垢方式对膜的污染影响 |
由于其本质为较原始的螯和掩蔽,故会有大量微晶生成,当加药量过大时,微晶会在 膜表面形成冻胶状排列,导致膜的污染 |
Dendrimer的阻垢方式为完全防止微晶产生,所以不会在膜表面产生任何污染 |