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Logo哪里可以腐蚀？
蚀刻加工
材料材质:
SUS304不锈钢/铜/铝/铁
材料厚度(公制):
0.03-1.0mm
产品用途:
蚀刻加工 主要应用于精密工程，电子，通讯，家电行业,工艺礼品
产品特点:
蚀刻加工线条均均，无毛剌，无缺口
产品价格:
以材料材质、厚度、精度要求、量产数量综合核定
蚀刻加工能力:
三条蚀刻生产线，25米蚀刻机可大批量生产，每天生产高达1000平方米
样品提供:
付费打样，样品3天内，***快24小时出样！
批量生产时间:
正常一星期内.
通常可藉由改变溶液浓度及温度予以控制。溶液浓度可改变反应物质到达及离开待蚀刻物表面的速率，一般而言，当溶液浓度增加时，蚀刻速率将会提高。而提高溶液温度可加速化学反应速率，进而加速蚀刻速率。除了溶液的选用外，选择适用的屏蔽物质亦是十分重要的，它必须与待蚀刻材料表面有很好的附着性、并能承受蚀刻溶液的侵蚀且稳定而不变质。而光阻通常是一个很好的屏蔽材料，且由于其图案转印步骤简单，因此常被使用。但使用光阻作为屏蔽材料时也会发生边缘剥离或龟裂的情形。边缘剥离乃由于蚀刻溶液的侵蚀，造成光阻与基材间的黏着性变差所致。解决的方法则可使用黏着促进剂来增加光阻与基材间的黏着性，如Hexamethyl-disilazane (HMDS)。龟裂则是因为光阻与基材间的应力差异太大，减缓龟裂的方法可利用较具弹性的屏蔽材质来吸收两者间的应力差。蚀刻化学反应过程中所产生的气泡常会造成蚀刻的不均匀性，气泡留滞于基材上阻止了蚀刻溶液与待蚀刻物表面的接触，将使得蚀刻速率变慢或停滞，直到气泡离开基材表面。因此在这种情况下会在溶液中加入一些催化剂增进蚀刻溶液与待蚀刻物表面的接触，并在蚀刻过程中予于搅动以加速气泡的脱离。
1)样品尺寸首先根据仪器的样品室及样品台所允许的最大尺寸来选则所分析的样品尺寸，其次能达到观察和分析样品之目的就可以了，不必加大样品尺寸。 (2)对样品表面的要求样品表面必须研磨得非常光滑平整，不能留有研磨剂，这关系到实验结果的准确性和可靠性。 (3)对样品表面的蚀刻，在对样品进行x射线显微分析时，一般要分析元素的分布情况，其次还要观察样品的形貌或组织情况，为此，必须对样品进行蚀刻才能观察组织。 (4)对非导体样品表面的喷镀x射线显微分析的样品不仅要求导热性好，同时也要求具有良好的导电性，所以必须在样品表面喷镀一层极薄的导电层。喷镀材料要密度小，且对X射线吸收系数小，这样可忽略吸收效应，多半采用碳、铝等，喷镀层厚度一般为10~40nm。 (5)标准样品采用标准分析时，必须制备标准样品，一般采用纯元素标样，即含分析元素99.999%作为标准样品。另一类是化合物标样，成分是已知的，化合物稳定，在微小数量级内成分均匀，这类样品多半是化学性质活泼的或在常温下为气体元素的化合物。 [2]
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