微弧氧化膜的成分和结构与普通阳极氧化膜完全不同,尽管可以笼统地认为微弧氧化是物理的放电过程与电化学过程协同作用,实际的反应机理仍然并不是非常清楚的,从微弧氧化的众多的名称也可见一斑。铝的微弧氧化膜的结构、成分和形貌与溶液成分和工艺条件有密切关系,微弧氧化膜一般由三层组成。这是广州铝镁钛金属表面技术有限公司研究发现具有很高普遍适用性,同时国内的研究结果大体也类似这种结果。
一、过渡层
紧贴铝表面的薄层,厚度约为3-5纳米。由氧化铝和正长石组成。
二、工作层
这是微弧氧化膜的主体,视需要厚度可以在150-250毫米,其成分以刚玉为主,也有氧化铝。这一层孔隙率很小,硬度极高。
三、表面层
这一层比较疏松粗糙,在含硅酸盐的溶液中,则微弧氧化膜的表面层含硅酸铝和氧化铝。用于工程目的时,一般需要磨去这一层直接接触工作层使用。铝合金 镁合金

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光电催化氧化技术的基本原理
光电催化氧化技术——光电化学效应(1839年E.Becquerel)1955年根据锗电极试验得出的结果指出,大功率紫外灯,Becquerel效应是由于生成半导体-电解液结的关系,供应紫外灯,从而产生了利用照射置于电解槽中半导体电极生产***或电极的概念,1972年,利用n型半导体TiO2将水在比H2O/O2对的标准氧化电位负的多的情况下生产O2获得成功之后,引起人们广泛关注。
光电催化氧化技术的基本原理:
光电催化氧化技术——光催化和电催化反应的特例,同时具有光、电催化反应的特点。是在光照条件下在具有不同类型(电子和离子)电导的两个导电体的界面上进行的一种催化过程。
具有光催化的特点:光化学氧化法应用产生新的可移动的载流子(具有更高的氧化或还原能力),伴随着电流的流动。
光电化学过程:光能、电能或化学能之间的转化根据光激发起始步骤的不同。
分为两类:电极(催化剂)的光激发引起:半导体电极和金属电极半导体电极:近表面区形成一个空间电荷层,有可能参与电极/电解液界面的电化学反应。

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