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武义县恒缘钛金厂

普通会员6
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:浙江 金华
联系卖家:金先生
手机号码:15888962828
公司官网:www.zjhytj.com
企业地址:武义县东南工业园区(双路亭)
本企业已通过工商资料核验!
企业概况

武义县恒缘钛金厂地处风景秀丽的武义县东南工业园区;是一家从事UV真空镀膜加工服务的厂家,已建立了一套严密的生产工艺,技术力量雄厚,加工规格齐全,有着丰富的镀膜加工经验。主要镀膜产品有不锈钢,铁,铝合金,玻璃制品,塑料工艺制品等,镀膜颜色多样丰富,可根据客户的产品进行设计和定制。公司始终以“为客户提供......

武义uv镀-恒缘钛金***可靠-金属uv镀工艺

产品编号:517432793                    更新时间:2019-04-10
价格: 来电议定
武义县恒缘钛金厂

武义县恒缘钛金厂

  • 主营业务:uv真空镀膜
  • 公司官网:www.zjhytj.com
  • 公司地址:武义县东南工业园区(双路亭)

联系人名片:

金先生 15888962828

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产品详情




uv镀武义县恒缘钛金厂是一家从事【uv镀膜】【UV真空镀膜】加工服务的厂家,主要镀膜产品有不锈钢,铁,铝合金,玻璃制品,塑料工艺制品等,镀膜颜色多样丰富,可根据客户的产品进行设计和定制。

恒缘钛金与您分享阳极氧化等30 表面处理工艺(二)

电泳 是电泳涂料在阴阳两极,施加于电压作用下,带电荷的涂料离子移动到阴极,并与阴极表面所产生的碱性物质作用形成不溶解物,沉积于工件表面。

微弧氧化 又称微等离子体氧化,是通过电解液与相应电参数的组合,在铝、镁、钛及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用,生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。

金属拉丝 是通过研磨产品在工件表面形成线纹,起到装饰效果的一种表面处理手段。

烧蓝 是将整个胎体填满色釉后,再拿到炉温大约800℃的高炉中烘烧,色釉由砂粒状固体熔化为液体,待冷却后成为固着在胎体上的绚丽的色釉,此时色釉低于铜丝高度,所以得再填一次色釉,再经烧结,一般要连续四五次,直至将纹样内填到与掐丝纹相平。

喷丸 即使用丸粒轰击工件表面并植入残余压应力,提升工件疲劳强度的冷加工工艺。

喷砂 是利用高速砂流的冲击作用清理和粗化基体表面的过程,金属uv镀工艺,即采用压缩空气为动力,以形成高速喷射束将喷料(铜矿砂、石英砂、金刚砂、铁砂、海南砂)高速喷射到需要处理的工件表面,金属uv镀厂家报价,使工件表面的外表面的外表或形状发生变化。

蚀刻 是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻,指通过pu光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。

IMD 即In-Mold Decoration(模内装饰技术),亦称免涂装技术,是国际风行的表面装饰技术,表面硬化透明薄膜,中间印刷图案层,背面注塑层,油墨中间,可使产品耐摩擦,防止表面被刮花,并可长期保持颜色的鲜明不易退色。

OMD 模外装饰(Out Mold Decoration)简称,是视觉、触觉、功能整合展现,IMD延伸之装饰技术,是一种結合印刷、纹理结构及金属化特性之3D表面装饰技术。





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恒缘钛金与您分享什么是PVD真空电镀,uv镀厂,都有那些工序

湿法工艺:1.化学浸镀2.电镀3.喷导电涂料干法工艺 1.真空蒸镀2.阴极溅镀 3.离子镀 4.烫金5.熔融喷镀真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。

加热金属的方法:有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。在对塑料制品实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,必须对蒸镀时间进行调整。此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,武义uv镀,使金属蒸发或升华,金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。

通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低( 10-5Pa )。镀层厚度0.04-0.1um,太薄,反射率低;太厚,附着力差,易脱落。厚度0.04时反射率为90%



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恒缘钛金与您分享离子镀

蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面,称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。,将基片台作为阴极,外壳作阳极,充入惰性气体(如ya)以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子(约占蒸发料的95%)也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用(离子能量约几百~几千电子伏)和ya离子对基片的溅射清洗作用,使膜层附着强度大大提高。离子镀工艺综合了蒸发(高沉积速率)与溅射(良好的膜层附着力)工艺的特点,并有很好的绕射性,可为形状复杂的工件镀膜。


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