二、预烘和底胶涂覆（Pre-bake and Primer Vapor）
由于光刻胶中含有溶剂，进口光刻胶 NR-3000PY，所以对于涂好光刻胶的硅片需要在80度左右的。硅片脱水烘焙能去除圆片表面的潮气、增强光刻胶与表面的黏附性、通常大约100 °C。这是与底胶涂覆合并进行的。
底胶涂覆增强光刻胶(PR)和圆片表面的黏附性。广泛使用: (HMDS)、在PR旋转涂覆前HMDS蒸气涂覆、PR涂覆前用冷却板冷却圆片。
光刻胶工艺
普通的光刻胶在成像过程中，由于存在一定的衍射、反射和散射，进口光刻胶，降低了光刻胶图形的对比度，从而降低了图形的分辨率。随着***加工特征尺寸的缩小，进口光刻胶 去胶，入射光的反射和散射对提高图形分辨率的影响也越来越大。为了提高***系统分辨率的性能，Futurrex 光刻胶正在研究在***光刻胶的表面覆盖抗反射涂层的新型光刻胶技术。该技术的引入，可明显减小光刻胶表面对入射光的反射和散射，进口光刻胶 厂家，从而改善光刻胶的分辨率性能，但由此将引起工艺复杂性和光刻成本的增加。
光刻胶编码 HS编码: | 3707100001 [类注] | [章注] | [子目注释] |
| 中文描述: | 不含银的感光乳液剂 （CIQ码：301:***液体） |
| 英文描述: | Non-silver light-sensitive emulsion agent |
| 申报要素: | 0.品牌类型；1.出口享惠情况；2.用途；3.包装；4.成分；5.是否含银；6.品牌；7.型号；8.是否有感光作用（以下要素仅上海海关要求）9.GTIN；10.CAS |
| 申报要素举例: | / 1.感光剂；2.用途:感光材料，用于喷墨制版机；3.包装:瓶装；4.成分:重氮树脂94%以上；5.无品牌；6.无型号 |
| 单位: | 千克 |
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