低压等离子设备是如何设计的，以及其是如何工作的？
在低压等离子体技术中，通过提供能量激发真空中的气体。会产生高能量的离子和电子，以及其他活性粒子，等离子，并形成等离子体。从而极其有效的对表面作出改变。共分为三种等离子效应：
微喷砂处理： 通过离子冲击剥蚀表面
化学反应： 离子化气体与表面发生化学反应
紫外线辐射： 紫外线辐射分解了长链碳化合物
通过诸如，压力、功率、工艺时间、气体流量和气体成分之类的工艺参数的变化，等离子体的作用方式也会随之发生改变。这样，pdc-02等离子清洗机，便可以在一个单独的工艺步骤中实现多种效果。
等离子清洗机可用于以下用途：
通过等离子体射流中所含的活性粒子（自由基）的反应进行活化。此外，低温等离子体工作原理，借助经压缩空气加速的等离子体射流可以去除表面散落的、附着性颗粒。专为预处理塑料模制零部件而设计，以便改善印刷油墨、油漆、胶粘剂、泡沫等的附着现象。
对于良好的表面处理而言，以下几点至关重要：
仅可用于处理非导电性材料。
对于实现所需的表面特性而言，处理速度以及电晕头与待处理表面之间的距离是***重要的参数。改动参数会彻底改变预处理效果。
较低的速度和/或反复处理均会导致均匀的表面活化。
在常压等离子体技术中，气体在常压下借助高电压被激发，并点燃等离子体。借助压缩空气从喷嘴中将等离子体喷出。共分为两种等离子效应：通过等离子射流中所含的活性粒子进行活化和精密清洗。此外，借助经压缩空气加速的活性射流可以去除表面散落的、附着性颗粒。
改变诸如处理速度和至基材表面的距离之类的工艺参数，会对处理结果造成不同程度的影响。
等离子设备接受过处理的零部件在进行后续加工之前可存放多久？零部件的存放时间取决于活化时间和材料 ，***短为几分钟，***多可达到数月。因此，通常有必要进行现场试验。
SPA等离子处理设备： 允许***的前部访问，方便地访问所有内部组件。泵***在辊子上，便于拆卸。等离子体室由11号不锈钢和铝制固定装置构成，具有出色的耐用性。该室具有多个可移动和可调节的货架，可容纳一系列零件承运人，包括机械手，托盘，晶片。具有可选高吞吐量货架的离子体处理系统，将等离子清洗机的可靠性和工艺质量与达因特独特的搁架设计的成熟优势相结合。等离子体中发现的反应离子，提高了处理均匀性，同时缩短了处理时间。系统允许从一系列工艺气体（如氢气和氦气）中进行选择。它配备了四个质量流量控制器，用于气体控制。开槽的杂志垂直放置在室内。此外，开槽的处理的材料可以垂直放置在室内。通常，每个槽至少保存20个引线框。SPV等离子室可容纳多个放置处理的槽，具体取决于处理材料的大小。
用于故障分析或MEM和LED器件制造的高性能等离子体蚀刻，等离子蚀刻系统设计用于***的蚀刻应用，例如：去除用于故障分析，去封装和介电材料去除的中间膜，蚀刻氧化物，氮化物，硅，金属，材料用于MEMS，LED或IC器件制造，环氧树脂去除; 光致抗蚀剂剥离和去除。等离子体蚀刻机可以适应各种工艺气体，包括：Ar，苏州等离子清洗机，O2，H2 /形成气体，He，CF4和SF6。标准是2个电子质量流量控制器，用于气体控制，另有2个可选项（共4个）。
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