用于故障分析或MEM和LED器件制造的高性能等离子体蚀刻，等离子蚀刻系统设计用于***的蚀刻应用，例如：去除用于故障分析，去封装和介电材料去除的中间膜，蚀刻氧化物，氮化物，硅，金属，材料用于MEMS，LED或IC器件制造，环氧树脂去除; 光致抗蚀剂剥离和去除。等离子体蚀刻机可以适应各种工艺气体，包括：Ar，O2，H2 /形成气体，He，等离子清洗 电桨机，CF4和SF6。标准是2个电子质量流量控制器，用于气体控制，另有2个可选项（共4个）。
晟鼎大气等离子清洗机设备提供了优质的处理的均匀性和一致性的过程，led等离子清洗机，等离子体系统在一个非常可配置的平台中提供***的等离子体处理质量和自动化功能，从而实现半导体和电子封装的高产量等离子体处理和等离子体清洗， 根据室内套件和电极配置，等离子体室能够进行诸如电介质蚀刻，光致抗蚀剂除去/灰分，氧化物去除，有机污染物清洁和表面活化等过程。
经济实惠的反应离子蚀刻在紧凑的台式配置中，等离子表面处理视频，各向异性反应离子蚀刻等离子体系统是完全***的，需要小的工作台面积。等离子体蚀刻机底盘也用作集成安全外壳，容纳等离子体室，控制电子设备，13.56 MHz射频发生器和自动匹配网络（只有真空泵在系统外部）。通过互锁的门或容易拆卸的面板提供维护通道。
真空等离子清洗机由高质量的阳极氧化铝和陶瓷夹具构成，等离子，具有出色的耐久性。等离子体室可以配置6“或8”电源电极，以适应各种晶圆尺寸，零件，IC封装和其他元件。
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