一、真空管式炉概述
真空管式炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。
主要用于粉体、电子、陶瓷等其它产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等
二、真空管式炉特点
1、炉膛材料采用进口陶瓷纤维，呈现温场均衡、表面温度低、升温速率快、节能等优点；
2、电热元件采用进口高电阻合金丝，表面负荷高，发热速度快；
3、炉体两端采用不锈钢密封法兰，耐高温、耐腐蚀；
4、保护管采用高纯石英管 ，气管采用密封快接插头，安装方便；
5、炉体采用双层空气隔热技术，配有自动冷却风扇，降低炉体外壳温度；
6、控制系统采用进口40段程序控温，控温精度&plu***n;1℃，移相触发、可控硅控制；
三、真空管式炉参数
额定功率 4KW
额定电压 AC220V
***高温度 1600℃
额定温度 1500℃
升温速率 ≤10 ℃/min
炉管尺寸 Dia 80 X 1000 mm
控温精度 &plu***n;1℃
控温方式 32段程序
PID程序控温 （日本进口）
热电偶型号 B型
加热元件 硅钼棒
炉管材料 99刚玉
重量 约120 Kg
炉膛材料 氧化铝多晶体纤维
氧化铝含量95% （真空成型） 美国进口
炉壳表面温度 ≤35 ℃
注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！