等离子处理表面机器-等离子-晟鼎精密

采用特殊工艺，等离子清洗还可用于处理有机硅材料。可确保表面不含有 LABS，甚至是对于硅橡胶。通过创新和***环保意识的低压等离子体技术可以除去待涂层零部件表面的 LABS 物质，从而解决了这个关键问题。集成于生产链的等离子清洗流程具有以下优点：

降低了返工率

降低了废品率

避免出现投诉

提高材料生产安全性

达因特还以这些工艺提供表面处理服务。为此，我们提供了多台等离子设备以及经验丰富的资质员工。这样，我们便能够确保您的零部件和组件具有好的表面质量。

等离子清洗机由高质量的阳极氧化铝和陶瓷夹具构成，具有出色的耐久性，经济实惠的反应离子蚀刻在紧凑的台式配置中，各向异性反应离子蚀刻等离子体系统是完全***的.

等离子体限制环将等离子体直接聚焦在晶片上，以加速蚀刻，提供均匀的等离子体覆盖，等离子，并将等离子体隔离在晶片本身上，而不是隔离其周围或周围的区域。过程温度可以保持较低，因为增加了蚀刻速率的能力，等离子处理表面机器，而不需要增加电极温度或增加夹头的偏置。该环由绝缘的非导电材料制成，而铝到铝等离子体传导路径被限制在晶片区域。环与胶带和晶片框之间有2mm的间隙。由于没有等离子体产生或等离子体到晶片和胶带的底部，因此底切和分层，并且晶片表面上没有溅射或胶带沉积。整个室容积减小到仅仅晶片上方的区域。R等离子体蚀刻系统专为***的蚀刻应用设计，例如：去除用于故障分析，去封装和介电材料去除的中间膜，蚀刻氧化物，氮化物，金属表面处理 等离子，硅，金属，ILED或IC器件制造，环氧树脂去除; 光致抗蚀剂剥离和去除。

用于大面积真空等离子体清洗机的SPV系列可提供各种室尺寸，可选择垂直或水平面板配置。定制配置可用于大型和厚板面板要求。行业验证的等离子体技术在层压之前提供优异的表面处理均匀性，以提高粘附性和可靠性。***的设计，经济消耗，占地面积小以及有吸引力的系统定价都有助于降低拥有成本。容易装载和多功能机架允许大的吞吐量，单级等离子体处理和容量选项，可为广泛的PCB制造要求提供出色的产量。