其他注意事项
1）环境温度：10-30oC
2）相对湿度：不大于75%
3）冷却水进水温度：不高于25oC
4）冷却水质：城市自来水或相当质量的水。
5）供电电源：380V三相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器需要而定)；电压波动范围：342-399V或198-231V；频率波动范围：49-51Hz。
6）设备所需的压缩空气，液氮，冷水、热水等的压力、温度，消耗量等，均应在产品使用说明书中写明。
7）设备周围环境整洁，空气清洁，不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。
真空电镀设备主要有哪些功能?现在真空电镀设备是做的越来越好，真空电镀厂，从一开始功能较单一的真空电镀到如今的多功能结合的真空电镀，其中经历了较长时间。
真空电镀设备的真空室能用不锈钢或者碳钢组合使用制作，真空电镀设备做成单开门或者又开门。
真空电镀设备能通过利用电阻加热，若电阻要加热，真空电镀设备所使用的材料包括石墨、钨、钽、钼、镍铬等，真空电镀设备加热后要进行保温，真空电镀加工，真空电镀设备设置了保温层就可以提高加热的效率，真空电镀报价，以免真空电镀设备的热量快速散失，一般有金属保温层和复合保温层两种形式。
真空电镀设备为更好的进行测试、测定室内温度，真空电镀设备使用测温仪器和控温仪器，真空电镀，避免温度过高或不达标真空电镀设备，抽气系统由各种真空泵及附件按其各自功能组装使用。
真空管镀膜的原理是电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与亚原子发生碰撞，电离出大量的亚离子和电子，电子飞向基片。亚离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子沉积在基片上成膜。
现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶将膜体的蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子沉积在基片上成膜，解决了过去自然蒸发无法加工的膜体品种，如镀钛镀锆等等。
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