5英寸抛光硅片，电阻率均匀，致密性好 厚度公差小 平整度高等特点 多可用于同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜做衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM、原子力、红外光谱、荧光光谱等分析测试基底、分子束外延生长的基底、X射线分析晶体半导体光刻等
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公司主营：硅片，砷化镓，锑化镓等半导体材料
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| 价格： | ¥85.00 |
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