红外系统光学-墨光科技(在线咨询)-光学

DSEARCH发现了10种设计，其中大多数非常好。

现在需要进一步改进设计。 运行DSEARCH产生的优化MACro，光学设计，镜头的性能变化很小。

现在必须检查视场的像质。 在PAD中，单击PAD工具栏中的“扫描”按钮 ，然后观察到靠近曲面10的光阑在所有视场中都没有很好地填充。在这个广泛的区域和近轴光瞳的系统中你能期望什么？我们必须控制它

由于我们改变了YP0的数量，红外系统光学，目前镜头只有一个不明显的光瞳。这使我们接近光阑真正的结果，但是现在我们必须把它放在那里。在WS编辑窗格中，我们输入APS -10 来在表面10上放置一个真正的光阑。然后我们从PANT文件中删除变量VY 0 YP1，光学，优化并模拟退火。

对表面3和4执行相同操作，然后运行MACro并再次模拟退火。 评价函数下降了。 并继续释放变量G 11到G 20。评价函数下降到0.018。 这是很明显的进步。 现在释放剩余的G变量以及圆锥常数CC，并在YG和ZG变量上注释掉SKIP指令。 （如果你自己运行这个操作，结果通常有所不同，光学软件，因为模拟退火阶段将随机性纳入过程。但总体质量通常是相似的。）评价函数已降至0.011。 结果非常好。

您可能想知道为什么我们一开始就不让CC变化。表面从平面开始，不能把圆锥常数赋给平面。所以我们要等到平面变成曲面后才能改变CC。现在评估我们目前的结果。 转到MAP对话框（MMA）并要求在物点网格，物点CREC，光线图样CREC 9，显示圆圈，EANALOG比例1.0和执行的网格上绘制波前差的图案。

现在打开由DSEARCH为右半部分镜片组准备的优化宏，修改TOTL的设置，指1定1200mm长度的上限(LLL 1200 .01 1 A TOTL)。还为后焦添加一个控制目标，现在由solve控制。(M 11 .1 A BACK)。然后运行宏并模拟退火(33，2，50)。镜头得到了改进。我们有了一个非常好的微光刻镜头。

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