等离子体清洗机除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能：PE-50等离子体清洗机的等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子体清洗机的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物***、微观流体学等领域。
等离子体清洗机的应用范围：
* 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
* 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
* 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
* 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
* 清洗半导体元件、印刷线路板。
* 清洗生物芯片、微流控芯片。
* 清洗沉积凝胶的基片。
* 高分子材料表面修饰。
* ***材料、人造移植物、***器械的消毒和杀菌。
* 改善粘接光学元件、光纤、生物***材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
设备型号：PE-50
1. 处理腔体
1.1 腔内尺寸：长度140 x深度178 x高度89mm；
1.2 腔体材质：6061-T6 航空特种铝材；
1.3 腔体外配有观察视窗(View port) ，可监视工艺处理状况；
1.4 等离子体导入以平面多孔设计，以达等离子体均匀分布；
1.5 腔体容积:2.7升；
2. 电极装置
2.1 水平处理电极，宽度114x 深度152mm；
3. 射频电源
3.1 射频频率：13.56MHz；
3.2 射频功率：0-125W 连续可调；
3.3 配有自动匹配网络，可自动调谐达到射频匹配***佳输出功率和***小反射功率，该射频发生器可同时显示前向与反射功率；
4. 真空泵浦
4.1 采用JB双头真空油泵，抽气速率：8 m3/hr；
4.2 可处理氧气，***气，氮气，空气等气体；
5. 流量控制
5.1 真空范围: 1~2000mTorr；
5.2 二套旋转浮子流量计，流量范围：0-25 cc/min；
5.3 PLC控制系统：键盘用户界面，数显控制。