Venus75-HF等离子表面处理系统

1. 处理腔体
1.1 腔内尺寸：内径273mm x 深度254mm；
1.2 腔体材质：6061-T6 航空特种铝材；
1.3 腔体外配有观察视窗(View port) ，可监视工艺处理状况；
*1.4 等离子体导入以平面多孔设计，以达等离子体均匀分布；
1.5 前开口设置，便于样品的放入与取出；
2. 电极装置
*2.1 水平处理电极，宽度229 x 深度254mm x 高度152mm，
3. 射频装置
3.1 频率：13.56MHz；
3.2 功率：0-300W 连续可调；
3.3 配有自动匹配网络，可自动调谐达到射频匹配***佳输出功率和***小反射
功率，该射频发生器可同时显示前向与反射功率；
3.4 射频防护设置，避免对***造成辐射；
4. 真空泵浦
4.1 采用原装进口的Edwa*** RV12F 防腐双极真空泵浦；
4.2 抽气速率：抽气速率12m3/h；
*4.3 可处理***气，氮气，氧气，四氟化碳等活性或腐蚀性气体；
5. 处***体
5.1 真空范围: 1~2000mTorr；
5.2 三套MFC 气体质量流量控制单元，可同时处理三种不同的气体；
*5.3 气流控制范围：0-50 cc/min；
6. 控制系统
6.1 基于 PC 系统的操作控制软件；
6.2 具有全自动模式；
6.3 具有密码保护功能