PPC等离子清洗/去胶系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子去胶机融合了下面的特点，并在众多的应用领域中得到肯定。
产品特色
负载循环控制，模拟功率控制
处理机存储
水冷底座
减少污水排放
安全保护设计
操作简便 维护方便
应用范围：
混合电路板制造中基片的清洗
打线工艺前清洗电子部件，提高其可靠性
锡焊或焊接工艺前,关键性镀金部件的清洗
清洗半导体元器件
光刻胶去胶
上胶、印刷和其它表面浸湿操作的表面准备
镀膜前对光学器件清洗
清洗石英、蓝宝石及其它材料
适用工艺：
打线垫清洗、减少金属氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片垫；
去除光刻胶、塑料表面上胶处理、去除油渍或是环氧残留物；
清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光学部件、清洗半导体表面、清洗镀银部件；
塑胶密封剂去除--失效模式分析
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型号 |
PLA***A-PREEN II #862 |
PLA***A-PREEN II #973 |
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反应舱尺寸(H*W*D) |
203mm x 152 mm x 50mm |
229 x 178 x 76 mm |
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冷却面(H*W) |
203 mm x 152 mm |
229 mm x 178 mm |
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反应舱 |
方形舱体 |
方形舱体 |
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反应舱材质 |
派热克斯玻璃&铝材 |
派热克斯玻璃&铝材 |
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水冷式 |
水冷装置 |
水冷装置 |
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负载比 |
10%至连续性 |
10%至连续性 |
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标准流量 |
5cu-ft./Hr.@STP |
5cu-ft./Hr.@STP |
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频率(GHz) |
2.45 GHz |
2.45 GHz |
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功率(Watts) |
100至750之间调节 |
100至750之间调节 |
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重量 (Kg) |
29.5kg |
38.5kg |