




现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶将膜体的蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,真空电镀,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜,解决了过去自然蒸发无法加工的膜体品种,真空电镀厂家,如镀钛镀锆等等。
目前真空管膜层普遍采用铝氮复合膜,整个膜层分内、中、外三层,各有其作用,内层为反射层,主要作用是阻止管中热水的热量向外辐射;中层为吸收层,主要作用是吸收光能,并转化成热能;外层为减反层,主要作用是减少阳光的反射,增加阳光的吸收率。
其他注意事项
1)环境温度:10-30oC
2)相对湿度:不大于75%
3)冷却水进水温度:不高于25oC
4)冷却水质:城市自来水或相当质量的水。
5)供电电源:380V三相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器需要而定);电压波动范围:342-399V或198-231V;频率波动范围:49-51Hz。
6)设备所需的压缩空气,液氮,冷水、热水等的压力、温度,真空电镀价格,消耗量等,均应在产品使用说明书中写明。
7)设备周围环境整洁,真空电镀加工价格,空气清洁,不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。
真空镀膜加工、PVD真空电镀特性
一、金属表面耐磨/颜色均匀一致,持久光泽,在各种正常空气和阳光直射环境条件下长久保持良好外观。颜色深韵、光亮,可减少清洗和擦亮颜色所必须的时间和成本对环境不会产生任何污染,在生产和佩戴过程中避免化学反应具有生物兼容性。
二、镀膜特性
PVD真空镀膜具有***的附着力和耐久力–可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落。其它的技术,包括电镀,喷涂等都不能与其相比。任何能够想象出的设计图案都可以蚀刻出来/在内装修或者室外装修都可以使用,抗腐蚀能力强。
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