




钨铜合金用作电触头材料的强度组主要取决于钨骨架的高温强度。钨虽具有较高的强度和较好的热稳定性,但其强度随温度上升而显著下降,为了提高钨的高温强度,钨铜公司,通过实验拟采用固溶强化的方法,固溶强化的机制是多方面的,如溶质气团对位错的钉扎;溶质原子与基体形成无序固溶体,造成点阵畸变、形成应力场;溶质原子与基体形成有序固溶体造成有序硬化等。
钨铜合金中B的掺杂量在0—0.9(wt%)范围时,相对密度和硬度呈先升后降的趋势,均在掺杂量为0.3%时达到极值。当B的掺杂量不超过0.7%时,电导率成略微下降趋势,当掺杂量为0.9%时,电导率值下降至很低。***中的铜相较商用样品变的十分细小,随着掺杂量的增多,孔隙和团聚现象有所增加。
钨铜合金中Nb的掺杂量在0—4.0(wt%)范围时,钨铜工厂,相对密度和硬度均呈上升趋势,但当掺杂量大于2.0%时,上升趋势减缓。电导呈下降趋势,但变化不大。***中的铜相变的细小均匀,随着掺杂量的越多,南城钨铜,偏聚现象增加的并不明显。
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因为钨铜材料具有很高的耐热性和杰出的导热导电性,一起又与硅片、及陶瓷材料相匹配的热胀大系数,故在半导体材料中得到广泛的使用。适用于与大功率器材封装材料、热沉材料、散热元件、陶瓷以及基座等。钨铜电子封装和热沉材料,既具有钨的低胀大特性,又具有铜的高导热特性,钨铜电极,其热胀大系数和导热导电功能能够经过调整钨铜的成分而加以改动,因此给钨铜供给了更广的用途。因为钨铜材料具有很高的耐热性和杰出的导热导电性,一起又与硅片、及陶瓷材料相匹配的热胀大系数,故在半导体材料中得到广泛的使用。
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