英国Ossila公司提供的紫外臭氧清洗机（UVO），是一种简单，经济，快速的材料表面清洗设备，只需把样品放置到样品盘上，关上舱门，设置时间，并按运行，就可以了，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，***化***，氧化铝等）上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时，紫外清洗非常理想。要获得超洁净的表面，只需要在传统清洗后，再用紫外臭氧清洗几分钟就可获得！
目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。
表面UV光清洗：利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE，对有机物质所起的光敏氧化分解作用，以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物），获得超洁净的表面。
表面UV光改质：利用紫外光照射有机表面，在将有机物分解的同时，254nm波长的紫外光被物体表面吸收后，将表层的化学结构切断，光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合，并将之变换成具有高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），从而提高表面的浸润性。
主要应用：
石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。
微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。
精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。
在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,***針接合部份的表面性,介入导管的表面改型等。
科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等。
产品特点
成本低；
?120x120mm样品台；
?***大处理样品高14mm；
?抽屉式样品台，简单方便；
?样品台自动安全开关,打开UV自动关闭，防止对人身伤害； UVO显示器
?LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”；
?60分钟定时器；
?高强度UV灯源；
?可控温的样品台；
?样品清洗无需溶剂；
?超净表面。
技术参数
在紫外线臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基质上(300纳米二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分钟后(右)。
