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华仪行(北京)科技有限公司

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关于CIFCIF来源于美洲,服务于中国,是一家集实验室仪器设备研发、制造、销售、服务、产品应用为一体的专业化集团公司,在半导体材料表面处理技术和无机样品前处理技术领域为客户提供先进的、高品质的实验仪器设备和应用工艺解决方案。CIF中国总部坐落于北京国际企业孵化中心(IBI),系国家高新技术企业,公司......

分子印迹仪

产品编号:7670067                    更新时间:2018-09-05
价格: 来电议定
华仪行(北京)科技有限公司

华仪行(北京)科技有限公司

  • 主营业务:等离子清洗机、紫外臭氧清洗机、匀胶机、烤胶机、真空赶酸系统、...
  • 公司官网:www.cif-china.com
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产品详情

生产厂家:美国bioforce公司
性能与优势

美国bioforce公司生产的Nano eNablerTM分子印迹仪作为一种全新的应用技术,主要应用在超显微或纳米级别的微液微体积印迹的需求。作为一种能达到纳米级准确率的操作平台,可涂布直径微小的印迹点(1到30um),在50mm×50mm的广阔区域内以极高的精度(20nm的分辨率)进行操作实现多种印迹功能。从生物大分子到纳米颗粒皆可直接作为印迹材料。可在多种材料样品表面上进行或大或小的复杂印迹,从而更完善的解决了部分生物学问题。美国bioforce公司Nano eNablerTM分子印迹仪更多的灵活度,更多的印迹大小的选择、更高的准确度和分辨率、更快捷的印迹方式以及强大的处理能力,满足了使用者多方面的应用要求。

美国bioforce公司Nano eNablerTM分子印迹仪由一个紧凑的精密运动控制平台、一个微型表面图案化工具(SPT™探针)以及集成微流控芯片组成。印迹材料装入SPT™探针,通***感探测器调整激光强度和位置来监测SPT™探针悬臂和样品表面的接触时间和接触力。能***地控制分配的液体的体积和印迹尺寸。复杂的电子设备和强大的用户界面对每个印迹实验达到毫秒控制。为确保良好的印迹效果,由计算机控制的加湿器维持恒定湿度环境。整个过程由150-1000倍视频显微镜高分辨率的光学变焦显微镜、CCD、nanoware™软件、实时显示的视频摄像机等完成。为了减少仪器的占地面积,计算机集成到控制器中。Nano eNablerTM分子印迹仪采用美国bioforce公司的Femto(射流增强分子转移)技术。印迹迅速,准确,减少堵塞。


Nano eNablerTM台式分子印记仪系统的杰出品质:

        ?可涂布直径更微小的印迹点(1到30um),在50mm×50mm的广阔区域内以极高的精度(20nm的分辨率)进行操作各种印迹功能。

        ?从生物大分子到纳米颗粒皆可直接作为印迹材料,可在多种材料样品表面上进行或大或小的复杂印迹。

Nano eNablerTM系统以下的几点重要功能是我们的使用者津津乐道的:

        ?应用Nano eNablerTM分子印迹系统,我们的客户可以在多样的样品表面上进行或大或小的复杂印迹,从而更完善的解决了部分生物学问题。使用者可以完成他们各种假设的细胞驱动研究,而不必局限于现有设备。

  ?Nano eNablerTM分子印迹系统由于采用SPT™探针,独特开槽结构设计极大减少了微粒阻塞探针的现象。美国bioforce公司的Femto(射流增强分子转移)技术。印迹迅速,准确,减少堵塞。

       ?其他印迹技术所无法比拟的是Nano eNablerTM分子印迹系统提供了一系列更***的实验特性:更多的灵活度,更多的印迹大小的选择;更高的准确度、分辨率;更快捷的印迹方式以及更强大的处理能力,满足了使用者多方面的应用要求。

      ?对比传统的印迹方式,Nano eNablerTM分子印迹系统具有的优势不仅限于更利灵活的控制方法以及更加多样化的印迹方式,这就意味着,使用者可以投入更多的时间在具体实验中,而不必花费大量时间等待新的光掩膜和PDMS模型。

主要应用
     Nano eNablerTM系统作为一种崭新明确的实验手段,满足了现***测实验中不断减小样品量进行微体积印记的需求。
目前Nano eNablerTM系统主要应用在以下几个领域:
?研究化学物质与生物传感器的反应进程,包括MEMS(微电机)/NEMS(纳米电机)系统。
?分子水平的表面印记研究细胞生长。

产品特点:

?内置内置光学显微镜

?控制软件

?复用能力

?在线编辑(测试版)

?环境控制

?视频记录

?图像***

??Y型设计

技术规格:
?光斑大小:1-50mm(attoliter femtoliter)
?XY轴行程:50mm
?XY轴分辨率:20nm
?印记周期:100ms
?Z轴范围:50mm
?Z轴分辨率:100nm
?光学变焦:100x-700x
兼容材料和表面:
?材料:蛋白质、核酸、脂类、胶体、量子点、紫外光固化胶粘剂、蚀刻剂、催化剂
?表面:硅、***、金属、硫醇单分子膜、PDMS、水凝胶、***、聚***

 

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