中诺新材(在线咨询)-高纯铜靶材-高校用 高纯铜靶

金、银、铂、钯溅射靶材通过熔炼提纯、浇铸成锭，锻造轧制和精密机加工制造而成。纯度均可达到99.99%，主要应用于电子半导体、太阳能光伏、平面显示、磁学等行业。

钌、铑、铱溅射靶材采用高纯金属粉末为原料，通过粉末冶金铸锭，高校用 高纯铜靶，并精密机加工成靶，产品纯度可达99.95%。主要应用于电子半导体、磁学等行业。

常规靶材有：

高纯金 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯银 靶材 99.99%φ50.8mm，高纯铜靶材 定制加工， φ60mm， φ101.6mm

高纯铂 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯钯 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯钌 靶材 99.95%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯铑 靶材 99.95%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯铱 靶材 99.95%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

常规厚度1-6mm

可定制加工的圆靶方靶，可提供靶材绑定服务。

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产品包括：靶材产品，粉末产品，颗粒块锭，高纯铜靶材，丝片型材等。

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