真空电镀设备主要分为：中频磁控真空电镀设备、UV真空电镀设备、小型真空电镀设备等。
塑件尽量不要用金属镶嵌件，否则在镀前处理时嵌件易被腐蚀。 
一般来说，塑胶真空电镀，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点：
(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料.
(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜.
(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体，可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物.
(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制，容易得到高精度的膜厚.
(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜.
(6)溅射粒子几不受重力影响，真空电镀厂家，靶材与基板位置可自由安排.
(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上，且由于溅射粒子带有高能量，平湖真空电镀，在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜，真空电镀工艺，同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜.
(8)薄膜形成初期成核密度高，可生产10nm以下的极薄连续膜.
(9)靶材的寿命长，可长时间自动化连续生产.(10)靶材可制作成各种形状，配合机台的特殊设计做更好的控制及有效率的生产.
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