高纯钼-中诺新材-高纯钼靶材 定制

半导体化合物材料

我们可提供半导体行业所需常用氧化物，硒化物，锑化物，高纯钼，硫化物，碲化物等。

氧化物:氧化锌 氧化铟 氧化铋 氧化碲

硫化物:硫化锌 硫化钨 硫化钼 硫化锡 硫化锑 硫化锗 硫化银

硒化物:硒化锌 硒化铋 硒化锗 硒化镉 硒化锑 硒化锡 硒化铟 硒化钨

锑化物:锑化铋 锑化锡 锑化铟

碲化物:碲化铜(CuTe) 碲化铟 InTe 碲化锌(ZnTe) 三碲化二铋(Bi2Te3)，二氧化碲(TeO2). 碲化锑 碲化锌 碲化锗

多元化合物:铜铟硒 铜锌锡硫 锗锑碲

纯度：99.99-99.9999

状态：粉末 颗粒

可根据需求，定制不同比例的靶材

中诺新材拥有真空感应熔炼炉、悬浮熔炼炉等多种***生产设备，可提供各种常规高纯金属及合金。我公司采用***的锻造及热处理工艺，实现对靶材晶粒度的控制，并通过精密的机械加工工艺，制备出纯度高、晶粒细小、***均匀的高品质靶材。

常规产品如下：

商品名称纯度(%)常规尺寸

高纯铝 靶材99.999 99.9995

高纯钛 靶材99.995

高纯钴 靶材99.95

高纯铁 靶材99.95 99.99

高纯铟 靶材99.995

高纯锡 靶材99.99

高纯锆 靶材99.5 99.9

高纯铪 靶材99.95

高纯钒 靶材99.95

常规现货靶材尺寸：φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

靶材常规厚度2-6mm 可定制加工不同尺寸的圆靶、方靶

中诺新材可根据您的需求，高纯钼块 现货供应，为您定制不同化合物，高纯钼靶材 钼合金靶材供应，不同比例的掺杂靶材。通过球磨制粉，共沉积制粉，真空热压烧结，高纯钼靶材 定制，常压烧结等工艺，可保证靶材掺杂比例准确，掺杂相单一，致密度高。

部分定制靶材如下：

氧化铟锡 ITOIn2O3:SnO2=90:10 wt%

氧化锌铝 AZOZnO:Al2O3=98:2 wt%

铜铟硒 CIGSCu:In:Ga:Se=1:0.7:0.3:2 at%

氧化锌掺杂氧化镁等

氧化铟锌 IGZOIn:Ga:Zn=2:2:1 at%

钛锆酸铅 PZT Pb1.2Zr0.52Ti0.48O3

锗锑碲 GSTGe:Sb:Te=2:2:5 at%