洁净室光刻的退化。在半导体洁净室中***迫切需要适度控制的是光刻胶的敏***。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，***净化工程，它对相对湿度的控制范围的要求是***严格的。相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及精que的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，洁净工程，改变粘性，河南净化工程，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。
无尘车间净化原理：
洁净度的实现是通过空调机回风口处的初效过滤器，及末端的FFU***过滤送风单元两级过滤，足够的换气次数来实现的，新风采用二级过滤后送入车间。另外为保证洁净室不被外界污染，无尘车间要维护一定的正压，无尘净化工程，其相对非净化区的静压差≥10Pa，正压是通过控制新风的供给量来保证的。
无尘车间的空气循环是通过设置在吊顶内的空调机 末端FFU***送风单元完成的。其气流***采用上送下侧回。风系统只设回风管，回风管通过室内回风竖井将室内空气输送至FFU回风口来实现回风。
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