真空镀膜设备维护***
真空镀膜设备镀制两百次以上应当对真空室进行清洁，使用清洗液：NaOH饱和溶液，步骤，反复擦洗真空室的内壁。注意事项：NaOH溶液对***皮肤有灼伤效果，不可直接接触。
真空镀膜设备的真空泵（包括机械泵、旋片泵、扩散泵、滑阀泵等）连续工作了一个月以上需要更换新油（视情况而定，如油明显不足应及时添加不应死板），真空泵用久了抽真空速度会明显变慢，使用三个月至半年应该清洁油箱污垢，检查是否有***。泵在运转过程中应当保持油箱内油量不低于油标，泵应当时刻保持清洁，注意不同种类的真空泵油不可混合使用，真空泵使用唯独不超过70摄氏度。
真空镀膜设备的日常维护：
设备在工作的时候，操作人员不得长时间的离开岗位。设备工作时，应时刻注意各部分仪表的显示情况以及泵的声音，如果出现异常应当及时找出问题所在。
应设备工作时可能会产生振动使得部分螺栓出现松动，故必须定期检查。
经常检查各部分的回水情况，工作时应当保证各部分有充足的冷却水。
设备停止使用时候，应将真空室内的气体抽空，如果长时间需要搁置，需要充入保护气体并且把设备的水冷套循环水清空。
对设备的拆修不得用重锤敲击，不得划伤密封槽、密封面。
实验室用镀膜机,你是否了解?
***近咨询实验室镀膜机的客户越来越多，但是很多客户还不是特备了解它的运行原理和优势，大部分客户只知道它具体能做什么，但是对于机器的***知识，还是一知半解，因为现在市面上的镀膜机器种类繁多，也的确是不太好分辨。那么今天至成真空小编，详细的介绍一下设备的特点，让大家对它有一个系统的认识。
实验型小型蒸发镀膜设备(电阻/电子束/感应/离子源）适用于任意底色的塑料,陶瓷、树脂工艺品，玻璃等经真空镀膜后皆可镀成金、银、七彩、红、紫、蓝、灰、黑等多种鲜艳颜色，具有提高产品档次，外观更显华贵作用。
并且实验室镀膜机主要由真空室、排气系统、蒸发系统和电气设备四部分组成。真空室是放置镀件、进行镀膜的场所，直径一般为400~700mm，高400~800mm，用不锈钢或碳钢制作，有水冷却装置。它具有外形美观、结构紧凑、性能多样、操作简单可靠、耗电量低的特点。可实现蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、电弧镀膜等工艺。可进行手动、半自动、全自动控制,有多种尺寸型号可供选择。
很多厂家为了提高机器的镀层厚度的均匀性，真空室内的镀件夹具有行星机构或自转加公转的运动装置，如用行星运动方式，这种运动方式成膜均匀性好，台阶覆盖性能良好，镀件装载量大，可以充分利用真空镀膜室的有效空间，是目前经常采用的运动方式。为了提高抽气速率，可在机械泵和扩散泵之间加机械增压泵。因此，排气系统既要求在较短的时间内获得低气压以保证快速的工作循环。
真空镀膜机设备真空镀膜机系统组成
真空镀膜机等离子体束溅射镀膜机主要由射频等离子体源、真空获得系统、电磁线圈（发射线圈及汇聚线圈）、偏压电源、真空室（包括靶材及基片等）、真空控制系统等部分构成。其显著特点是它的等离子体发生控制系统，其示意图如图1所示。等离子体发生控制系统是镀膜机中的关键部分，其中射频等离子体源位于真空室的侧面，并在等离子体源的出口处及溅射靶材的下方分别配置有一个电磁线圈。当两个线圈同向通过电流时，线圈合成的磁场将引导等离子体源中产生的电子沿磁场方向运动，从而使等离子体束被约束在磁场方向上。同时靶材加有负偏压，使溅射离子在电场的作用下加速撞击靶表面，产生溅射作用。
真空镀膜机等离子体发生控制系统
真空镀膜机这种镀膜机具有非常灵活的控制方式，例如溅射速率可以通过调节靶材偏压和改变等离子体源的射频功率这两种途径进行调节。等离子体发生装置与真空室的分离设计是实现溅射工艺参数宽范围可控的关键，而这种参数阔范围的可控性使得特定的应用能够获得优化的工艺参数。此外，还可以通过控制系统的真空度来进行溅射速率的调节。
真空镀膜机中所示曲线为靶电流与偏压曲线、恒定电流密度时溅射速率与靶偏压的关系，其中恒定电流时射频功率为500W。
