真空镀膜技术优点
镀层附着性能好：普通真空镀膜时，在工件表面与镀层之间几乎没有连接的过渡层，好似截然分开。而离子镀时，离子高速轰击工件时，能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，对离子镀后的试件作拉伸试验表明，一直拉到快要断裂时，镀层仍随基体金属一起塑性延伸，无起皮或剥落现象发生,可见附着多么牢固，膜层均匀，致密。
绕镀能力强：离子镀时，蒸发料粒子是以带电离子的形式在电场中沿着电力线方向运动，因而凡是有电场存在的部位，均能获得良好镀层，这比普通真空镀膜只能在直射方向上获得镀层优越得多。
因此，这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽和窄缝。等其他方法难镀的部位。用普通真空镀膜只能镀直射表面，蒸发料粒子尤如攀登云梯一样，只能顺梯而上；而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中，带电离子则好比坐上了直升飞机，能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。
镀层质量好：离子镀的镀层***致密、无孔、无气泡、厚度均匀。甚至棱面和凹槽都可均匀镀复，不致形成金属瘤。象螺纹一类的零件也能镀复，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
真空镀膜机蒸发系统介绍
真空镀膜机蒸发系统主要指成膜装置部分，镀膜机器的成膜装置很多，有电阻加热、电子枪蒸发、磁控溅射、射频溅射、离子镀等多种方式，鄙人就电阻加热和电子枪蒸发两种方式作介绍，因为此两种方式我应用的比较多。
电阻蒸发根据其结构和工作原理是目前为止应用多，广泛的蒸发方式，也是应用时间长的蒸发方式。它的工作方式是，将钨片做成船状，然后安装在两个电极中间，在钨舟***加上***，再缓缓给电极通电，电流通过钨舟，钨舟通电发热，这些低电压，大电流使高熔点的钨舟产生热量，再热传导给镀膜材料，当钨舟的热量高于镀膜材料熔点的时候，材料就升华或者蒸发了，此方法由于操作方便，结构简单，成本低廉，故被很多设备应用，但是其蒸发出来的薄膜由于致密性不佳，加上很多材料无法采用这种方式蒸镀，所以其有一定局限性。钨舟蒸发镀膜材料的时候，材料的熔点必须小于钨舟的熔点，否则就没有办法进行。
真空镀膜机镀铝性能与哪些因素有关
真空镀膜机镀铝性能取决于塑件和镀膜层的质量，被人戏称为富人的游戏，说明镀膜质量要求相当高。镀膜质量的关键是底漆层质量。虽有无底涂镀膜，但其模具质量要求和成本高，存在真空镀膜机镀铝反射亮度不足和塑件缺陷等问题，易导致镀铝产品报废率居高不下。一般而言，无底涂的报废率在10%左右，有底涂在20%左右，甚至会更高。为解决这一困惑，国内有厂家经过10多年的努力，采用了炉内喷涂底漆并固化使镀件生成高亮的表面(无污染残留物)，进行高压离子清洗预处理，真空蒸发镀铝和镀保护膜，使产品的合格率在98%以上，每年可节省大量的喷漆、烤漆能耗和人工成本等。
