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北京创世威纳科技有限公司

普通会员6
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
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手机号码:13146848685
公司官网:www.weinaworld.com.cn
企业地址:北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层
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企业概况

北京创世威纳科技有限公司成立于2008年,现位于北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层,拥有1800余平方米的组装、调试车间、办公区,现在我们更专注于真空等离子体技术,成为集研发、设计、生产、销售于一体的设备制造商。公司通过了ISO质量管理体系认证,获批高新技术企业,拥有4项发明专利......

创世威纳(图)-磁控溅射镀膜机报价-磁控溅射镀膜机

产品编号:974214613                    更新时间:2019-10-10
价格: 来电议定
北京创世威纳科技有限公司

北京创世威纳科技有限公司

  • 主营业务:磁控溅射镀膜机,电子束/热阻蒸发机,ICP,RIE,IBE
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  • 公司地址:北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层

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产品详情






磁控溅射镀膜仪应用广泛

目前我国磁控溅射镀膜仪市场销售非常火热,这是一项热门的新技术,它带给企业和厂家的不仅仅是技术,还能够节省大量的人工运作成本,因此深受广大用户的青睐。

磁控溅射镀膜设备可制备多种薄膜,不同功能的薄膜,还可沉积组分混合的混合物、化合物薄膜;磁控溅射等离子体阻抗低,从而导致了高放电电流,在约500V的电压下放电电流可从1A 到100A(取决于阴极的长度);成膜速率高,沉积速率变化范围可从1nm/s到10nm/s;成膜的一致性好,甚至是在数米长的阴极溅射的情况下,仍能保证膜层的一致性;基板温升低;溅射出来的粒子能量约为几十电子伏特,成膜较为致密,且膜基结合较好。

磁控溅射镀膜设备得以广泛的应用是因为该技术的特点所决定的,其特点可归纳为:可制备成靶材的各种材料均可作为薄膜材料,磁控溅射镀膜机供应商,包括各种金属、半导体、铁磁材料,磁控溅射镀膜机,以及绝缘的氧化物、陶瓷、聚合物等物质。

另外磁控溅射调节参数则可调谐薄膜性能,尤其适合大面积镀膜,沉积面积大膜层比较均匀。

近年来,磁控溅射镀膜设备在我国愈发的流行,从侧面反映出了我国工业发展十分迅速,今后设备取代人工的可能性是非常巨大的。

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【磁控溅射镀膜设备】行业前景怎样

磁控溅射镀膜设备***性亮点大家掌握当髙速电子对不锈钢板材、钛、镍、金、银、铜等贵稀金属复合材料轰击后,金属复合材料分子式将向上面的聚脂膜无心插柳,再依据聚脂膜上面磁的作用,使被无心插柳的內部内部金属物联合分布。因而,运用这种制作工艺,解决了着色剂-热蒸发制作工艺生产加工的窗膜透光度低、高返光、保温隔热***差、视觉模模糊糊、易褪色、耐腐蚀性差等诸多缺陷,不仅可以制作各式各样纯金属化窗膜,而且因为没有再加任何珠光粉,因而它可以防止色偏、褪色,确保决不褪色,保证纯正的中***,与任何车辆的色彩都能配对,并保证不层级、不掉下来不开裂。更重要的是,它在不同的光照度下,视觉色彩恒定始终不变,可以保证车内工作员的视线清晰。磁控溅射机械设备是目前汽车玻璃膜生产加工中的***性,与前期或现如今一些假劣汽车玻璃膜生产商仍在采用的着色剂与镀铝复合性方式 来生产加工窗膜的制作工艺有着本质的不同。在上新时代80时代初,在******开始采用进口真空泵磁控溅射制作工艺实用化生产加工窗膜。

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磁控溅射镀膜机工艺

(1)技术方案 磁控溅射镀光学膜,有以下三种技术路线: (a)陶瓷靶溅射:靶材采用金属化合物靶材,可以直接沉积各种氧化物或者氮化物,磁控溅射镀膜机报价,有时候为了得到更高的膜层纯度,磁控溅射镀膜机价格,也需要通入一定量反应气体); (b)反应溅射:靶材采用金属或非金属靶,通入稀有和反应气体的混合气体,进行溅射沉积各种化合物膜层。 (c)离子辅助沉积:先沉积一层很薄的金属或非金属层,然后再引入反应气体离子源,将膜层进行氧化或者氮化等。 采用以上三种技术方案,在溅射沉积光学膜时,都会存在靶zhong毒现象,从而导致膜层沉积速度非常慢,对于上节介绍各种光学膜来说,膜层厚度较厚,膜层总厚度可达数百纳米。这种沉积速度显然增加了镀膜成本,从而限制了磁控溅射镀膜在光学上的应用。

(2)新型反应溅射技术 笔者对现有反应溅射技术方案进行了改进,开发出新的反应溅射技术,解决了镀膜沉积速度问题,同时膜层的纯度达到光学级别要求。表2.1是采用新型反应溅射沉积技术,膜层沉积速度对比情况。

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