





磁控溅射技术镀膜
磁控溅射技术镀膜是一种重要的物理的气相沉积镀膜技术,磁控溅射镀膜机厂家,这种工艺可工业化批量生产。本文***探讨了磁控溅射在光学镀膜中的应用,包括膜层设计和镀膜工艺。
光学镀膜设计
(1)减反射膜
减反射也称增透膜,这种膜主要镀在透明低折射率基底上,如玻璃上镀减反射膜,磁控溅射镀膜机供应商,常见的膜层结构采用高、低折射率膜层叠加而成
(2)彩色镀膜 彩色镀膜主要也是在玻璃等透明基底上镀膜,其膜层材料和结构类似减反射镀膜。这种玻璃在可见光下透射和反射的颜色不同。
3)渐变反射膜 渐变反射膜是一种在不同角度观察,反射的颜色不同的膜层。这种膜层可以镀在玻璃,也可以镀在金属基底。
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溅射镀膜机溅射镀技术应用
蒸发镀应用新型电极 引入装置,接触电阻小且可靠;磁控溅射应用镀膜材料广泛,各种非导磁的金属、合金均可作镀料;结构紧凑、占地面积小;磁控、蒸发共用两台立式工件车,操作 方便、***。 (或双门蒸发、磁控两用机) 公司业务范围真空镀膜成套设备与技术,真空工程用各种泵、阀、真空计、油、脂、密封件,真空镀膜材料、涂料、金属及合金制品。真空设备故障诊断与排除、老 产品改造。新型塑料、金属、玻璃等制品表面处理工艺及技术研究,咨询服务。新技术、新设备、新工艺公司新开发的磁控、蒸发多用镀膜机,配用改进型高真空抽 气系统及全自动控制系统,抽速快、效率高、操作简单、工作可靠;具有可镀膜系广、膜层均匀、附着力好、基板温度底等特点;是镀制金属、合金及化合物膜的理 想设备;适合镀制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已广泛应用在光学、电子、通讯、航空等领域。

真空磁控溅射镀膜
说白了无心插柳就是说用荷能物体(一般 用稀有气体的正离子)去轰击固态(下列称靶材)表层,进而造成靶材表层上的分子(或分子结构)从在其中逸出的这种状况。这一状况是格洛夫(Grove)于1842年在试验科学研究阴极浸蚀难题时,阴极原材料被转移到真空管内壁而发觉的。
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