洁净室的流型基本上是上述三种类型，但是实际应用时可演变出很多形式。洁净室可以是单向流和非单向流组合在一起的混合流型，宿迁净化工程，以在局部区域（单向流部分）实现高i级别的洁净室。例如，在洁净室中设水平单向流的“隧道”（一侧敞开），洁净室的其余部分是涡流的单向流流型，从而实现“隧道”部分达到5级以上洁净度，工作台就设在“隧道内”。
无尘洁净室按受控粒子的性质划分
（1）工业洁净室：受控粒子为尘埃等非生物粒子的洁净室。
（2）生物洁净室：受控粒子为生物粒子的洁净室
洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，gmp净化工程，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高，粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，净化工程装修，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产***i佳湿度范围为35—45%。首先无尘室的墙体材质要选洁净性能好，不会吸附灰尘的材质，并且节能环保，外观看上去美观，造价实惠。施工方便吊顶一般选用50mm的夹心彩钢板，特点是施工周期短，后期维护起来比较方便。洁净室一些配套设备如工作台，洗手池，鞋凳、地漏等要选择不锈钢材质的，不容易产生灰尘。地面一般选用环氧自流平，特点是耐磨，使用时间长，如果一些行业无尘室内需要防静电的，可以选用防静电地板。
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