轰击离子束刻蚀机-轰击离子束刻蚀机原理-创世威纳(推荐商家)

离子属刻蚀机的注意事项

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#.在设备工作时，禁止扶、靠设备，禁止触摸高频电缆和线圈，以免发生意外

#.高频电源实际使用功率不能超过较大限制#.检查设备时，必须关机后切断电源

#. 工作场地必须保持清洁、干燥，设备上及设备周围不得放置无关物品，特别是易1燃、易1爆物品

#.长期停放时注意防潮，拆除电源进线，每隔3-5天开一次机，保证反应室真空以免被污 染

#.设备停机、过夜也要保持反应室真空，轰击离子束刻蚀机原理，如停机较长时间后再进行刻蚀工艺，需***行一次空载刻蚀，再刻蚀硅片

刻蚀机

刻蚀精度主要是用保真度、选择比、均匀性等参数来衡量。所谓保真度度，就是要求把光刻胶的图形转移到其下的薄膜上，轰击离子束刻蚀机供应商，即希望只刻蚀所要刻蚀的薄膜，而对其上的掩膜和其下的衬底没有刻蚀。事实上，以上三个部分都会被刻蚀，只是刻蚀速率不同。选择比就是用来衡量这一指标的参数。S=V/U（V为对薄膜的刻蚀速率，U为对掩膜或衬底的刻蚀速率），S越大则选择比越好。由于跨越整个硅片的薄膜厚度和刻蚀速率不尽相同，从而也导致图形转移的不均匀，轰击离子束刻蚀机，等离子刻蚀机尤其是中心和边缘相差较大。因而均匀性成为衡量这一指标的重要参数。除以上参数外，刻蚀速率也是一个重要指标，它用来衡量硅片的产出速度，刻蚀速率越快，则产出率越高。

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刻蚀技术

由于***束不同，刻蚀技术可以分为光刻蚀（简称光刻）、X射线刻蚀、电子束刻蚀和离子束刻蚀，轰击离子束刻蚀机工作原理，其中离子束刻蚀具有分辨率高和感光速度快的优点，是正在开发中的新型技术。

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