





反应离子刻蚀的操作方法
通过向晶片盘片施加强RF(射频)电磁场,在系统中启动等离子体。该场通常设定为13.56兆赫兹的频率,施加在几百瓦特。振荡电场通过剥离电子来电离气体分子,从而产生等离子体 [3] 。在场的每个循环中,电子在室中上下电加速,聚焦离子束刻蚀机原理,有时撞击室的上壁和晶片盘。同时,响应于RF电场,更大质量的离子移动相对较少。当电子被吸收到腔室壁中时,它们被简单地送到地面并且不会改变系统的电子状态。然而,聚焦离子束刻蚀机,沉积在晶片盘片上的电子由于其DC隔离而导致盘片积聚电荷。这种电荷积聚在盘片上产生大的负电压,通常约为几百伏。由于与自由电子相比较高的正离子浓度,等离子体本身产生略微正电荷。由于大的电压差,正离子倾向于朝向晶片盘漂移,在晶片盘中它们与待蚀刻的样品碰撞。离子与样品表面上的材料发生化学反应,但也可以通过转移一些动能来敲除(溅射)某些材料。由于反应离子的大部分垂直传递,反应离子蚀刻可以产生非常各向异性的蚀刻轮廓,这与湿化学蚀刻的典型各向同性轮廓形成对比。RIE系统中的蚀刻条件很大程度上取决于许多工艺参数,例如压力,气体流量和RF功率。 RIE的改进版本是深反应离子蚀刻,用于挖掘深部特征。


反应离子刻蚀的工作原理
通常情况下,反应离子刻蚀机的整个真空壁接地, 作为阳极, 阴极是功率电极, 阴极侧面的接地屏蔽罩可防止功率电极受到溅射。要腐蚀的基片放在功率电极上。腐蚀气体按照一定的工作压力和搭配比例充满整个反应室。对反应腔中的腐蚀气体, 加上大于气体击穿临界值的高频电场, 在强电场作用下, 被高频电场加速的杂散电子与气体分子或原子进行随机碰撞, 当电子能量大到一定程度时, 随机碰撞变为非弹性碰撞, 产生二次电子发射, 它们又进一步与气体分子碰撞, 不断激发或电离气体分子。这种激烈碰撞引起电离和复合。当电子的产生和消失过程达到平衡时, 放电能继续不断地维持下去。由非弹性碰撞产生的离子、电子及及游离基(游离态的原子、分子或原子团) 也称为等离子体, 具有很强的化学活性, 可与被刻蚀样品表面的原子起化学反应, 形成挥发性物质, 达到腐蚀样品表层的目的。同时, 由于阴极附近的电场方向垂直于阴极表面, 高能离子在一定的工作压力下,聚焦离子束刻蚀机报价, 垂直地射向样品表面, 进行物理轰击,聚焦离子束刻蚀机生产厂家, 使得反应离子刻蚀具有很好的各向异性 。
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离子属刻蚀机的注意事项
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#.在设备工作时,禁止扶、靠设备,禁止触摸高频电缆和线圈,以免发生意外
#.高频电源实际使用功率不能超过较大限制#.检查设备时,必须关机后切断电源
#. 工作场地必须保持清洁、干燥,设备上及设备周围不得放置无关物品,特别是易1燃、易1爆物品
#.长期停放时注意防潮,拆除电源进线,每隔3-5天开一次机,保证反应室真空以免被污 染
#.设备停机、过夜也要保持反应室真空,如停机较长时间后再进行刻蚀工艺,需***行一次空载刻蚀,再刻蚀硅片


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